NITROGEN INCORPORATION INTO HARD FLUORINATED CARBON FILMS NANOSCALE FRICTION AND STRUCTURAL MODIFICATIONS

• Autores: Sanchez T., C. M., H. Maia da Costa, M. E., Freire Jr, F. L.
• Formato: artículo
• Fecha de Publicación: 2005
• Institución: Universidad Nacional Mayor de San Marcos
• Repositorio: Revistas - Universidad Nacional Mayor de San Marcos
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:ojs.csi.unmsm:article/8549
• Enlace del recurso: https://revistasinvestigacion.unmsm.edu.pe/index.php/fisica/article/view/8549
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Espectroscopia Rama; espectroscopia fotoelectrònica inducida por rayos X; películas nanoescalares

La incorporación del nitrógeno en películas duras de carbono fluorado, depositadas por la descomposición de un plasma de radio frecuencia en un ambiente de CH4-CF4-N2, fue estudiada. Las características estructurales y químicas de las peliculas fueron realizadas por espectroscopia Raman, espectroscopia fotoelectronica inducida por rayos X (XPS)y análisis por haz de iones. Estos resultados demuestran que la incorporación de nitrógeno ocurre a costas del contenido de carbono en las películas y que da lugar a un aumento del tamaño y del numero de los dominios gráficos. Los espectros de XPS demuestran la existencia de nitrógeno incorporado, ambos en los anillos aromáticos y como radicales terminales. El comportamiento de la fricción de las películas fue investigado por microscopia de fuerzas atómicas. La importancia de la incorporación de nitrógeno para la hidrofobicidad superficial y los procesos de fricción que ocurren por fuerte contacto a escala nanoscòpica, fue verificada.