OPTIMIZACIÓN DE LA REMOCIÓN DE COMPUESTOS ORGÁNICOS PERSISTENTES MEDIANTE EL PROCESO FOTO-FENTON

• Autores: Gutiérrez, César, Pilco, Alex
• Formato: artículo
• Fecha de Publicación: 2020
• Institución: Sociedad Química del Perú
• Repositorio: Revista de la Sociedad Química del Perú
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:rsqp.revistas.sqperu.org.pe:article/273
• Enlace del recurso: https://revistas.sqperu.org.pe/index.php/revistasqperu/article/view/273
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Photo-Fenton; textile wastewater; experiment design; chemical oxygen demand; Foto-Fenton; agua residual textil; diseño de experimentos; emanda química de oxígeno

La metodología de superficie de respuesta se aplicó para evaluar la condición óptima experimental a fin de remover los compuestos orgánicos persistentes de un agua residual textil sintética usando un reactor fotoquímico en lote a escala laboratorio. Cuatro factores a tres niveles fueron estudiados: relación de reactivos Fenton H2O2/Fe2+ (11,25, 18,75, 26,25 mg/L/mg/L), potencia de lámpara UV (4, 11, 18 W), pH (2, 3, 4) y tiempo de tratamiento (60, 120, 180 min). Los niveles óptimos encontrados para los cuatro factores fueron: relación de reactivos Fenton H2O2/Fe2+ igual a 17 mg/L/mg/L, potencia de lámpara UV igual a 4 W, pH igual a 3 y tiempo de tratamiento de 180 min. Se encontró que el proceso foto-Fenton es muy efectivo para tratar el agua residual textil sintética, encontrándose una remoción de un 86 %, respecto al DQO.