Rugosidad superficial de dos resinas de nanorelleno termopolimerizadas posterior al fotocurado: in vitro

• Autor: Diaz Tucto, Jorge Homero
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2025
• Institución: Universidad Nacional Toribio Rodríguez de Mendoza de Amazonas
• Repositorio: UNTRM-Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.untrm.edu.pe:20.500.14077/4509
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.14077/4509
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Resina compuesta de nanorelleno; Fotopolimerización; Termocurado; Rugosidad superficial; https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#3.04.04

La presente investigación es de enfoque cuantitativo, de tipo experimental, comparativo, prospectivo y transversal, desarrollada con el objetivo de determinar cuál es el nivel de rugosidad superficial de las resinas de nanorelleno Palfique XL5 y Estelite Omega, ambas fotopolimerizadas con una lámpara polywave y posteriormente sometidas a un postcurado en calor seco. Se confeccionaron 40 discos con diámetro de 4 mm y una altura de 2 mm, 20 por cada una de las resinas utilizadas. Los discos del grupo M2 y del grupo M4 fueron sometidos adicionalmente a un proceso de termocurado en calor seco en una estufa a 150 °C por un tiempo de 10 minutos, para finalmente ser analizados con la ayuda de un rugosímetro y determinar los niveles de rugosidad superficial de las muestras, según normas ISO 21920. Los resultados obtenidos de esta investigación nos dicen que los valores por grupo de resina compuesta son, para el grupo M1 encontramos un nivel de rugosidad superficial promedio de 1.665 μm, el grupo M2 con un valor de 0.686 μm, el grupo M3 con valor de 2,105 μm y el grupo M4 con valor de rugosidad superficial de 1.112 μm. En conclusión, podemos decir que hay diferencias estadísticamente significativas entre los grupos M1 y M2 (p = 0.002), M2 y M3 (p = 0.003), M2 y M4 (p = 0.019), M3 y M4 (p = 0.013), sugiriendo así que el proceso de termocurado influye de manera positiva a disminuir los niveles de rugosidad superficial en ambas resinas de nanorelleno.