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El debido proceso en el régimen disciplinario de la Ley Servir en una entidad pública, Callao 2024

Descripción del Articulo

La presente tesis asumió como objetivo determinar influencia del debido proceso en el régimen disciplinario de la ley servir en una entidad pública, Callao 2024. La investigación fue de tipo aplicada, explicativa-causal. La población estuvo conformada por servidores públicos, la muestra estuvo confo...

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Detalles Bibliográficos
Autor: Neciosup Orrego, Edith
Formato: tesis de maestría
Fecha de Publicación:2024
Institución:Universidad Cesar Vallejo
Repositorio:UCV-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.ucv.edu.pe:20.500.12692/149265
Enlace del recurso:https://hdl.handle.net/20.500.12692/149265
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Debido proceso
Servidores públicos
Régimen disciplinario de la ley servir
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#5.06.02
Descripción
Sumario:La presente tesis asumió como objetivo determinar influencia del debido proceso en el régimen disciplinario de la ley servir en una entidad pública, Callao 2024. La investigación fue de tipo aplicada, explicativa-causal. La población estuvo conformada por servidores públicos, la muestra estuvo conformada por 81 servidores públicos. La técnica utilizada fue la encuesta y el instrumento el cuestionario, para la recolección de información de la variable debido proceso se elaboró un cuestionario con 18 ítems; y para medir la variable régimen disciplinario de la ley servir se elaboró un cuestionario con 18 ítems; se utilizó el software estadístico SPSS versión 26 para procesar los datos. Los resultados de la investigación determinaron que la variable debido proceso influye en el régimen disciplinario de la ley servir con un Chi cuadrado de 36,412 y un valor de p de 0,001; por ende, la variable debido proceso tiene influencia moderada con un 42,1% en el régimen disciplinario de la ley servir. Concluyendo que existe influencia del debido proceso sobre el régimen disciplinario de la ley servir en una entidad pública.
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