Diseño y construcción de un magnetron desbalanceado para un sistema de deposición de películas delgadas ag-carbon amorfo

Descripción del Articulo

En el Perú existe una demanda creciente por el desarrollo de la tecnología de sputtering, debido a su amplio campo de aplicación industrial en las que se han estado enfocando principalmente en la producción de TiN, TiO y NbN con técnicas de Sputtering. Sin embargo, aún hace falta una investigación p...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Calderón Ipanaqué, Noely Zully
Formato: tesis de grado
Fecha de Publicación:2018
Institución:Universidad Nacional de Piura
Repositorio:UNP-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.unp.edu.pe:UNP/1302
Enlace del recurso:https://repositorio.unp.edu.pe/handle/UNP/1302
Nivel de acceso:acceso abierto
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description En el Perú existe una demanda creciente por el desarrollo de la tecnología de sputtering, debido a su amplio campo de aplicación industrial en las que se han estado enfocando principalmente en la producción de TiN, TiO y NbN con técnicas de Sputtering. Sin embargo, aún hace falta una investigación profunda de la producción de estos materiales depositados con un sistema de magnetron Sputtering. El más importante elemento dentro de un sistema de magnetron sputtering es el denominado “magnetron” que es el lugar donde será colocado el elemento a ser pulverizado y depositado sobre un sustrato. Actualmente en Perú hay sistemas de Sputtering, sin embargo no se tiene mayor experiencia en la realización del diseño y construcción de magnetrones. Los magnetrones desbalanceados mejoran la calidad de los recubrimientos. Teniendo en cuenta este aspecto, esta tesis propone participar científicamente en el diseño, construcción y optimización de un magnetrón desbalanceado de 2” de diámetro a ser instalado dentro de una cámara de deposición para estudiar los resultados experimentales obtenidos de películas delgadas a base de Plata inmersas en una matriz de carbon amorfo (Ag-C).
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