Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
Descripción del Articulo
En esta investigación se sintetizaron películas delgadas de tántalo (Ta) mediante la técnica de magnetrón sputtering DC con aplicación del bias sputtering, con el objetivo de caracterizar mecánicamente estos recubrimientos para mitigar el deterioro superficial de materiales causado por procesos de c...
| Autor: | |
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| Formato: | tesis de grado |
| Fecha de Publicación: | 2026 |
| Institución: | Universidad Nacional de San Antonio Abad del Cusco |
| Repositorio: | UNSAAC-Institucional |
| Lenguaje: | español |
| OAI Identifier: | oai:repositorio.unsaac.edu.pe:20.500.12918/12305 |
| Enlace del recurso: | https://hdl.handle.net/20.500.12918/12305 |
| Nivel de acceso: | acceso abierto |
| Materia: | Sputtering Magnetrón Estrés Nanoindentación Morfología https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.11.02 |
| Sumario: | En esta investigación se sintetizaron películas delgadas de tántalo (Ta) mediante la técnica de magnetrón sputtering DC con aplicación del bias sputtering, con el objetivo de caracterizar mecánicamente estos recubrimientos para mitigar el deterioro superficial de materiales causado por procesos de corrosión, desgaste y fatiga. La deposición se realizó bajo condiciones controladas de vacío, presión y potencia, obteniéndose recubrimientos homogéneos sobre sustratos de oblea de silicio (100). La caracterización mecánica incluyó el análisis del estrés, evaluado mediante la ecuación de Stoney; ensayos de nanoindentación para determinar la dureza; y el estudio morfológico a través de la microscopía electrónica de barrido (SEM). Los resultados mostraron que las películas presentan un régimen de estrés intrínsecamente compresivo en toda la gama de espesores estudiada, con mayores magnitudes en las capas delgadas debido a la limitada movilidad atómica y a la coalescencia inicial de islas. Al aumentar el espesor, el estrés disminuye gradualmente, reflejando mayor densificación y estabilidad estructural, fenómeno descrito por la fórmula empírica: ()=−45.52(1−−1⁄), donde A representa el estrés (GPa) y B el espesor (nm). La dureza promedio se ubicó entre 7.2 – 7.5 GPa, estabilizándose al superar los efectos superficiales asociados a la rugosidad y tensiones iniciales. El análisis por SEM reveló una microestructura columnar densa con microvacíos intercolumnarios, coherente con el estado tensional medido. En conjunto, estos resultados confirman la viabilidad de obtener películas delgadas de tántalo con propiedades mecánicas estables y reproducibles, destacando su potencial en aplicaciones aeroespaciales, térmicas, electrónicas y biomédicas |
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Nota importante:
La información contenida en este registro es de entera responsabilidad de la institución que gestiona el repositorio institucional donde esta contenido este documento o set de datos. El CONCYTEC no se hace responsable por los contenidos (publicaciones y/o datos) accesibles a través del Repositorio Nacional Digital de Ciencia, Tecnología e Innovación de Acceso Abierto (ALICIA).
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