Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica

Descripción del Articulo

En esta investigación se sintetizaron películas delgadas de tántalo (Ta) mediante la técnica de magnetrón sputtering DC con aplicación del bias sputtering, con el objetivo de caracterizar mecánicamente estos recubrimientos para mitigar el deterioro superficial de materiales causado por procesos de c...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Quispe Huillca, Abad Edihuay
Formato: tesis de grado
Fecha de Publicación:2026
Institución:Universidad Nacional de San Antonio Abad del Cusco
Repositorio:UNSAAC-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.unsaac.edu.pe:20.500.12918/12305
Enlace del recurso:https://hdl.handle.net/20.500.12918/12305
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Sputtering
Magnetrón
Estrés
Nanoindentación
Morfología
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.11.02
id RUNS_0094331d24a0518157503f949538eb07
oai_identifier_str oai:repositorio.unsaac.edu.pe:20.500.12918/12305
network_acronym_str RUNS
network_name_str UNSAAC-Institucional
repository_id_str 4815
spelling Chura Serrano, Pastor RaulQuispe Huillca, Abad Edihuay2026-02-19T12:47:20Z2026-02-19T12:47:20Z2026253T20260068https://hdl.handle.net/20.500.12918/12305En esta investigación se sintetizaron películas delgadas de tántalo (Ta) mediante la técnica de magnetrón sputtering DC con aplicación del bias sputtering, con el objetivo de caracterizar mecánicamente estos recubrimientos para mitigar el deterioro superficial de materiales causado por procesos de corrosión, desgaste y fatiga. La deposición se realizó bajo condiciones controladas de vacío, presión y potencia, obteniéndose recubrimientos homogéneos sobre sustratos de oblea de silicio (100). La caracterización mecánica incluyó el análisis del estrés, evaluado mediante la ecuación de Stoney; ensayos de nanoindentación para determinar la dureza; y el estudio morfológico a través de la microscopía electrónica de barrido (SEM). Los resultados mostraron que las películas presentan un régimen de estrés intrínsecamente compresivo en toda la gama de espesores estudiada, con mayores magnitudes en las capas delgadas debido a la limitada movilidad atómica y a la coalescencia inicial de islas. Al aumentar el espesor, el estrés disminuye gradualmente, reflejando mayor densificación y estabilidad estructural, fenómeno descrito por la fórmula empírica: ()=−45.52(1−−1⁄), donde A representa el estrés (GPa) y B el espesor (nm). La dureza promedio se ubicó entre 7.2 – 7.5 GPa, estabilizándose al superar los efectos superficiales asociados a la rugosidad y tensiones iniciales. El análisis por SEM reveló una microestructura columnar densa con microvacíos intercolumnarios, coherente con el estado tensional medido. En conjunto, estos resultados confirman la viabilidad de obtener películas delgadas de tántalo con propiedades mecánicas estables y reproducibles, destacando su potencial en aplicaciones aeroespaciales, térmicas, electrónicas y biomédicasapplication/pdfspaUniversidad Nacional de San Antonio Abad del CuscoPEinfo:eu-repo/semantics/openAccesshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/SputteringMagnetrónEstrésNanoindentaciónMorfologíahttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.11.02Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánicainfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisreponame:UNSAAC-Institucionalinstname:Universidad Nacional de San Antonio Abad del Cuscoinstacron:UNSAACSUNEDUFísicoUniversidad Nacional de San Antonio Abad del Cusco. Facultad de CienciasFísica76743674https://orcid.org/0000-0001-8130-812723824828https://purl.org/pe-repo/renati/type#tesishttps://purl.org/pe-repo/renati/level#tituloProfesional533056Warthon Ascarza, Julio LucasBenavente Ramirez, Edwin RomualdoHolguin Gallegos, HenryLozano Cusi, RolandoORIGINAL253T20260068_TC.pdfapplication/pdf3187850http://repositorio.unsaac.edu.pe/bitstream/20.500.12918/12305/1/253T20260068_TC.pdfa3755f7b5b8f27b9a7e1b117e0e92b3fMD5120.500.12918/12305oai:repositorio.unsaac.edu.pe:20.500.12918/123052026-02-19 08:04:01.564DSpace de la UNSAACsoporte.repositorio@unsaac.edu.pe
dc.title.es_PE.fl_str_mv Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
title Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
spellingShingle Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
Quispe Huillca, Abad Edihuay
Sputtering
Magnetrón
Estrés
Nanoindentación
Morfología
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.11.02
title_short Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
title_full Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
title_fullStr Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
title_full_unstemmed Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
title_sort Síntesis de películas delgadas de tántalo por la técnica de magnetrón sputtering y su caracterización mecánica
author Quispe Huillca, Abad Edihuay
author_facet Quispe Huillca, Abad Edihuay
author_role author
dc.contributor.advisor.fl_str_mv Chura Serrano, Pastor Raul
dc.contributor.author.fl_str_mv Quispe Huillca, Abad Edihuay
dc.subject.es_PE.fl_str_mv Sputtering
Magnetrón
Estrés
Nanoindentación
Morfología
topic Sputtering
Magnetrón
Estrés
Nanoindentación
Morfología
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.11.02
dc.subject.ocde.none.fl_str_mv https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.11.02
description En esta investigación se sintetizaron películas delgadas de tántalo (Ta) mediante la técnica de magnetrón sputtering DC con aplicación del bias sputtering, con el objetivo de caracterizar mecánicamente estos recubrimientos para mitigar el deterioro superficial de materiales causado por procesos de corrosión, desgaste y fatiga. La deposición se realizó bajo condiciones controladas de vacío, presión y potencia, obteniéndose recubrimientos homogéneos sobre sustratos de oblea de silicio (100). La caracterización mecánica incluyó el análisis del estrés, evaluado mediante la ecuación de Stoney; ensayos de nanoindentación para determinar la dureza; y el estudio morfológico a través de la microscopía electrónica de barrido (SEM). Los resultados mostraron que las películas presentan un régimen de estrés intrínsecamente compresivo en toda la gama de espesores estudiada, con mayores magnitudes en las capas delgadas debido a la limitada movilidad atómica y a la coalescencia inicial de islas. Al aumentar el espesor, el estrés disminuye gradualmente, reflejando mayor densificación y estabilidad estructural, fenómeno descrito por la fórmula empírica: ()=−45.52(1−−1⁄), donde A representa el estrés (GPa) y B el espesor (nm). La dureza promedio se ubicó entre 7.2 – 7.5 GPa, estabilizándose al superar los efectos superficiales asociados a la rugosidad y tensiones iniciales. El análisis por SEM reveló una microestructura columnar densa con microvacíos intercolumnarios, coherente con el estado tensional medido. En conjunto, estos resultados confirman la viabilidad de obtener películas delgadas de tántalo con propiedades mecánicas estables y reproducibles, destacando su potencial en aplicaciones aeroespaciales, térmicas, electrónicas y biomédicas
publishDate 2026
dc.date.accessioned.none.fl_str_mv 2026-02-19T12:47:20Z
dc.date.available.none.fl_str_mv 2026-02-19T12:47:20Z
dc.date.issued.fl_str_mv 2026
dc.type.none.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
format bachelorThesis
dc.identifier.other.none.fl_str_mv 253T20260068
dc.identifier.uri.none.fl_str_mv https://hdl.handle.net/20.500.12918/12305
identifier_str_mv 253T20260068
url https://hdl.handle.net/20.500.12918/12305
dc.language.iso.es_PE.fl_str_mv spa
language spa
dc.relation.ispartof.fl_str_mv SUNEDU
dc.rights.en_US.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri.*.fl_str_mv https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv https://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
dc.format.en_US.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.es_PE.fl_str_mv Universidad Nacional de San Antonio Abad del Cusco
dc.publisher.country.none.fl_str_mv PE
dc.source.none.fl_str_mv reponame:UNSAAC-Institucional
instname:Universidad Nacional de San Antonio Abad del Cusco
instacron:UNSAAC
instname_str Universidad Nacional de San Antonio Abad del Cusco
instacron_str UNSAAC
institution UNSAAC
reponame_str UNSAAC-Institucional
collection UNSAAC-Institucional
bitstream.url.fl_str_mv http://repositorio.unsaac.edu.pe/bitstream/20.500.12918/12305/1/253T20260068_TC.pdf
bitstream.checksum.fl_str_mv a3755f7b5b8f27b9a7e1b117e0e92b3f
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
repository.name.fl_str_mv DSpace de la UNSAAC
repository.mail.fl_str_mv soporte.repositorio@unsaac.edu.pe
_version_ 1868449023975751680
score 13.408945
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