Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering

Descripción del Articulo

El presente trabajo tiene por objetivo construir y poner en operación un magnetron para blancos de 2” de diámetro con el fin de producir y estudiar las propiedades de películas delgadas a base de Plata y de Cromo inmersas en una matriz de carbon amorfo tipo diamante (Ag-DLC y Cr-DLC), mediante la té...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Calderón Ipanaque, Noely Zully
Formato: tesis de maestría
Fecha de Publicación:2018
Institución:Universidad Nacional de Ingeniería
Repositorio:UNI-Tesis
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:cybertesis.uni.edu.pe:20.500.14076/15989
Enlace del recurso:http://hdl.handle.net/20.500.14076/15989
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Técnica Magnetron Sputtering
Películas de Ag-DLC
Películas de Cr-DLC
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.01
id UUNI_c0e0357210815ce3da7bdc1356434494
oai_identifier_str oai:cybertesis.uni.edu.pe:20.500.14076/15989
network_acronym_str UUNI
network_name_str UNI-Tesis
repository_id_str 1534
dc.title.es.fl_str_mv Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
title Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
spellingShingle Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
Calderón Ipanaque, Noely Zully
Técnica Magnetron Sputtering
Películas de Ag-DLC
Películas de Cr-DLC
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.01
title_short Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
title_full Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
title_fullStr Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
title_full_unstemmed Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
title_sort Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputtering
dc.creator.none.fl_str_mv Calderón Ipanaque, Noely Zully
author Calderón Ipanaque, Noely Zully
author_facet Calderón Ipanaque, Noely Zully
author_role author
dc.contributor.advisor.fl_str_mv Pujada Bermúdez, Braulio Rafael
dc.contributor.author.fl_str_mv Calderón Ipanaque, Noely Zully
dc.subject.es.fl_str_mv Técnica Magnetron Sputtering
Películas de Ag-DLC
Películas de Cr-DLC
topic Técnica Magnetron Sputtering
Películas de Ag-DLC
Películas de Cr-DLC
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.01
dc.subject.ocde.es.fl_str_mv https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.01
description El presente trabajo tiene por objetivo construir y poner en operación un magnetron para blancos de 2” de diámetro con el fin de producir y estudiar las propiedades de películas delgadas a base de Plata y de Cromo inmersas en una matriz de carbon amorfo tipo diamante (Ag-DLC y Cr-DLC), mediante la técnica de magnetron sputtering. Las películas fueron depositadas sobre obleas de silicio de 2” de diámetro usando blancos de Ag y Cr con 99,99% de pureza. El estrés interno y la dureza de las películas fueron medidos con el sistema de curvatura de obleas de silicio y nanoindentación, respectivamente. La morfología y espesor de las películas fueron medidas por microscopia electrónica de barrido (MEB). La composición y estructura química fueron medidas por espectroscopia Auger y Raman, respectivamente. Los resultados para las películas de Ag-DLC muestran que las condiciones para obtener una alta dureza están asociadas a cambios en su composición química producto de la aplicación de un voltaje de bias al sustrato. Para el caso de películas de Cr-DLC, el estrés interno pasa de tracción (positivo) en ausencia de gas de acetileno, a compresivo (negativo) a medida que aumenta el flujo de gas de acetileno. Mientras que con el aumento del voltaje de bias, el estrés compresivo en películas de Cr-DLC aumenta en valor absoluto. Los resultados son explicados en términos de los efectos de los parámetros de deposición sobre la composición química y estructural en las películas de Ag-DLC y Cr-DLC.
publishDate 2018
dc.date.accessioned.none.fl_str_mv 2019-01-25T15:05:06Z
dc.date.available.none.fl_str_mv 2019-01-25T15:05:06Z
dc.date.issued.fl_str_mv 2018
dc.type.es.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
dc.identifier.uri.none.fl_str_mv http://hdl.handle.net/20.500.14076/15989
url http://hdl.handle.net/20.500.14076/15989
dc.language.iso.es.fl_str_mv spa
language spa
dc.relation.ispartof.fl_str_mv SUNEDU
dc.rights.es.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri.es.fl_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/
dc.format.es.fl_str_mv application/pdf
dc.publisher.es.fl_str_mv Universidad Nacional de Ingeniería
dc.publisher.country.es.fl_str_mv PE
dc.source.es.fl_str_mv Universidad Nacional de Ingeniería
Repositorio Institucional - UNI
dc.source.none.fl_str_mv reponame:UNI-Tesis
instname:Universidad Nacional de Ingeniería
instacron:UNI
instname_str Universidad Nacional de Ingeniería
instacron_str UNI
institution UNI
reponame_str UNI-Tesis
collection UNI-Tesis
bitstream.url.fl_str_mv http://cybertesis.uni.edu.pe/bitstream/20.500.14076/15989/3/calderon_in.pdf.txt
http://cybertesis.uni.edu.pe/bitstream/20.500.14076/15989/2/license.txt
http://cybertesis.uni.edu.pe/bitstream/20.500.14076/15989/1/calderon_in.pdf
bitstream.checksum.fl_str_mv 7fbba0f6abe6e3cedbbaf54ed11f5a0b
8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33
ce3c799457192a7d1e90ae095f7c1bc8
bitstream.checksumAlgorithm.fl_str_mv MD5
MD5
MD5
repository.name.fl_str_mv Repositorio Institucional - UNI
repository.mail.fl_str_mv repositorio@uni.edu.pe
_version_ 1840085598734385152
spelling Pujada Bermúdez, Braulio RafaelCalderón Ipanaque, Noely ZullyCalderón Ipanaque, Noely Zully2019-01-25T15:05:06Z2019-01-25T15:05:06Z2018http://hdl.handle.net/20.500.14076/15989El presente trabajo tiene por objetivo construir y poner en operación un magnetron para blancos de 2” de diámetro con el fin de producir y estudiar las propiedades de películas delgadas a base de Plata y de Cromo inmersas en una matriz de carbon amorfo tipo diamante (Ag-DLC y Cr-DLC), mediante la técnica de magnetron sputtering. Las películas fueron depositadas sobre obleas de silicio de 2” de diámetro usando blancos de Ag y Cr con 99,99% de pureza. El estrés interno y la dureza de las películas fueron medidos con el sistema de curvatura de obleas de silicio y nanoindentación, respectivamente. La morfología y espesor de las películas fueron medidas por microscopia electrónica de barrido (MEB). La composición y estructura química fueron medidas por espectroscopia Auger y Raman, respectivamente. Los resultados para las películas de Ag-DLC muestran que las condiciones para obtener una alta dureza están asociadas a cambios en su composición química producto de la aplicación de un voltaje de bias al sustrato. Para el caso de películas de Cr-DLC, el estrés interno pasa de tracción (positivo) en ausencia de gas de acetileno, a compresivo (negativo) a medida que aumenta el flujo de gas de acetileno. Mientras que con el aumento del voltaje de bias, el estrés compresivo en películas de Cr-DLC aumenta en valor absoluto. Los resultados son explicados en términos de los efectos de los parámetros de deposición sobre la composición química y estructural en las películas de Ag-DLC y Cr-DLC.The aim of this thesis is to set-up and put in operation a magnetron for targets of 2” diameter in order to produce metal-diamond like carbon (Me-DLC) films using the technique of magnetron sputtering. For this thesis were used targets of silver (Ag) and chromium (Cr) with 99.99% purity. Ag-DLC and Cr-DLC films have been deposited onto 2” diameter silicon wafers. The internal stress and the hardness of the films have been measured using the wafer curvature method and nanoindentation, respectively. The morphology and thickness of the films were measured by scanning electron microscopy (SEM). The composition and chemical structure were measured by Auger and Raman spectroscopy, respectively. The results for the Ag-DLC films show that the conditions to obtain a high hardness are associated to changes in their chemical composition product of the application of a bias voltage to the substrate. In the case of Cr-DLC films, internal stress passes from tensile (positive) in the absence of acetylene gas, to compressive (negative) as the acetylene gas flow increases. While with the increase of the bias voltage, the compressive stress in Cr-DLC films increases in absolute value. The results are explained in terms of the effects of the deposition parameters on the chemical and structural composition in Ag-DLC and Cr-DLC films.Submitted by luis oncebay lazo (luis11_182@hotmail.com) on 2019-01-25T15:05:06Z No. of bitstreams: 1 calderon_in.pdf: 5158768 bytes, checksum: ce3c799457192a7d1e90ae095f7c1bc8 (MD5)Made available in DSpace on 2019-01-25T15:05:06Z (GMT). No. of bitstreams: 1 calderon_in.pdf: 5158768 bytes, checksum: ce3c799457192a7d1e90ae095f7c1bc8 (MD5) Previous issue date: 2018Tesisapplication/pdfspaUniversidad Nacional de IngenieríaPEinfo:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/Universidad Nacional de IngenieríaRepositorio Institucional - UNIreponame:UNI-Tesisinstname:Universidad Nacional de Ingenieríainstacron:UNITécnica Magnetron SputteringPelículas de Ag-DLCPelículas de Cr-DLChttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.01Estudio de los parámetros de crecimiento sobre las propiedades de recubrimientos Ag-DLC y Cr-DLC depositados por Magnetron Sputteringinfo:eu-repo/semantics/masterThesisSUNEDUMaestro en Ciencias con Mención en FísicaUniversidad Nacional de Ingeniería. Facultad de Ciencias. Unidad de PosgradoMaestríaMaestría en Ciencias con Mención en FísicaMaestríahttps://orcid.org/0000-0002-7901-82750945272847343634https://purl.org/pe-repo/renati/type#tesishttps://purl.org/pe-repo/renati/level#maestro533017Loro Ramírez, Héctor RaúlOchoa Jiménez, RosendoRodríguez Rodríguez, Juan MartínTalledo Coronado, Arturo FernandoTEXTcalderon_in.pdf.txtcalderon_in.pdf.txtExtracted texttext/plain107477http://cybertesis.uni.edu.pe/bitstream/20.500.14076/15989/3/calderon_in.pdf.txt7fbba0f6abe6e3cedbbaf54ed11f5a0bMD53LICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81748http://cybertesis.uni.edu.pe/bitstream/20.500.14076/15989/2/license.txt8a4605be74aa9ea9d79846c1fba20a33MD52ORIGINALcalderon_in.pdfcalderon_in.pdfapplication/pdf5158768http://cybertesis.uni.edu.pe/bitstream/20.500.14076/15989/1/calderon_in.pdfce3c799457192a7d1e90ae095f7c1bc8MD5120.500.14076/15989oai:cybertesis.uni.edu.pe:20.500.14076/159892024-10-21 16:36:23.307Repositorio Institucional - UNIrepositorio@uni.edu.peTk9URTogUExBQ0UgWU9VUiBPV04gTElDRU5TRSBIRVJFClRoaXMgc2FtcGxlIGxpY2Vuc2UgaXMgcHJvdmlkZWQgZm9yIGluZm9ybWF0aW9uYWwgcHVycG9zZXMgb25seS4KCk5PTi1FWENMVVNJVkUgRElTVFJJQlVUSU9OIExJQ0VOU0UKCkJ5IHNpZ25pbmcgYW5kIHN1Ym1pdHRpbmcgdGhpcyBsaWNlbnNlLCB5b3UgKHRoZSBhdXRob3Iocykgb3IgY29weXJpZ2h0Cm93bmVyKSBncmFudHMgdG8gRFNwYWNlIFVuaXZlcnNpdHkgKERTVSkgdGhlIG5vbi1leGNsdXNpdmUgcmlnaHQgdG8gcmVwcm9kdWNlLAp0cmFuc2xhdGUgKGFzIGRlZmluZWQgYmVsb3cpLCBhbmQvb3IgZGlzdHJpYnV0ZSB5b3VyIHN1Ym1pc3Npb24gKGluY2x1ZGluZwp0aGUgYWJzdHJhY3QpIHdvcmxkd2lkZSBpbiBwcmludCBhbmQgZWxlY3Ryb25pYyBmb3JtYXQgYW5kIGluIGFueSBtZWRpdW0sCmluY2x1ZGluZyBidXQgbm90IGxpbWl0ZWQgdG8gYXVkaW8gb3IgdmlkZW8uCgpZb3UgYWdyZWUgdGhhdCBEU1UgbWF5LCB3aXRob3V0IGNoYW5naW5nIHRoZSBjb250ZW50LCB0cmFuc2xhdGUgdGhlCnN1Ym1pc3Npb24gdG8gYW55IG1lZGl1bSBvciBmb3JtYXQgZm9yIHRoZSBwdXJwb3NlIG9mIHByZXNlcnZhdGlvbi4KCllvdSBhbHNvIGFncmVlIHRoYXQgRFNVIG1heSBrZWVwIG1vcmUgdGhhbiBvbmUgY29weSBvZiB0aGlzIHN1Ym1pc3Npb24gZm9yCnB1cnBvc2VzIG9mIHNlY3VyaXR5LCBiYWNrLXVwIGFuZCBwcmVzZXJ2YXRpb24uCgpZb3UgcmVwcmVzZW50IHRoYXQgdGhlIHN1Ym1pc3Npb24gaXMgeW91ciBvcmlnaW5hbCB3b3JrLCBhbmQgdGhhdCB5b3UgaGF2ZQp0aGUgcmlnaHQgdG8gZ3JhbnQgdGhlIHJpZ2h0cyBjb250YWluZWQgaW4gdGhpcyBsaWNlbnNlLiBZb3UgYWxzbyByZXByZXNlbnQKdGhhdCB5b3VyIHN1Ym1pc3Npb24gZG9lcyBub3QsIHRvIHRoZSBiZXN0IG9mIHlvdXIga25vd2xlZGdlLCBpbmZyaW5nZSB1cG9uCmFueW9uZSdzIGNvcHlyaWdodC4KCklmIHRoZSBzdWJtaXNzaW9uIGNvbnRhaW5zIG1hdGVyaWFsIGZvciB3aGljaCB5b3UgZG8gbm90IGhvbGQgY29weXJpZ2h0LAp5b3UgcmVwcmVzZW50IHRoYXQgeW91IGhhdmUgb2J0YWluZWQgdGhlIHVucmVzdHJpY3RlZCBwZXJtaXNzaW9uIG9mIHRoZQpjb3B5cmlnaHQgb3duZXIgdG8gZ3JhbnQgRFNVIHRoZSByaWdodHMgcmVxdWlyZWQgYnkgdGhpcyBsaWNlbnNlLCBhbmQgdGhhdApzdWNoIHRoaXJkLXBhcnR5IG93bmVkIG1hdGVyaWFsIGlzIGNsZWFybHkgaWRlbnRpZmllZCBhbmQgYWNrbm93bGVkZ2VkCndpdGhpbiB0aGUgdGV4dCBvciBjb250ZW50IG9mIHRoZSBzdWJtaXNzaW9uLgoKSUYgVEhFIFNVQk1JU1NJT04gSVMgQkFTRUQgVVBPTiBXT1JLIFRIQVQgSEFTIEJFRU4gU1BPTlNPUkVEIE9SIFNVUFBPUlRFRApCWSBBTiBBR0VOQ1kgT1IgT1JHQU5JWkFUSU9OIE9USEVSIFRIQU4gRFNVLCBZT1UgUkVQUkVTRU5UIFRIQVQgWU9VIEhBVkUKRlVMRklMTEVEIEFOWSBSSUdIVCBPRiBSRVZJRVcgT1IgT1RIRVIgT0JMSUdBVElPTlMgUkVRVUlSRUQgQlkgU1VDSApDT05UUkFDVCBPUiBBR1JFRU1FTlQuCgpEU1Ugd2lsbCBjbGVhcmx5IGlkZW50aWZ5IHlvdXIgbmFtZShzKSBhcyB0aGUgYXV0aG9yKHMpIG9yIG93bmVyKHMpIG9mIHRoZQpzdWJtaXNzaW9uLCBhbmQgd2lsbCBub3QgbWFrZSBhbnkgYWx0ZXJhdGlvbiwgb3RoZXIgdGhhbiBhcyBhbGxvd2VkIGJ5IHRoaXMKbGljZW5zZSwgdG8geW91ciBzdWJtaXNzaW9uLgo=
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