El presente trabajo tiene por objetivo construir y poner en operación un magnetron para blancos de 2” de diámetro con el fin de producir y estudiar las propiedades de películas delgadas a base de Plata y de Cromo inmersas en una matriz de carbon amorfo tipo diamante (Ag-DLC y Cr-DLC), mediante la técnica de magnetron sputtering. Las películas fueron depositadas sobre obleas de silicio de 2” de diámetro usando blancos de Ag y Cr con 99,99% de pureza. El estrés interno y la dureza de las películas fueron medidos con el sistema de curvatura de obleas de silicio y nanoindentación, respectivamente. La morfología y espesor de las películas fueron medidas por microscopia electrónica de barrido (MEB). La composición y estructura química fueron medidas por espectroscopia Auger y Raman, respectivamente. Los resultados para las películas de Ag-DLC muestran que las condiciones par...

En el Perú existe una demanda creciente por el desarrollo de la tecnología de sputtering, debido a su amplio campo de aplicación industrial en las que se han estado enfocando principalmente en la producción de TiN, TiO y NbN con técnicas de Sputtering. Sin embargo, aún hace falta una investigación profunda de la producción de estos materiales depositados con un sistema de magnetron Sputtering. El más importante elemento dentro de un sistema de magnetron sputtering es el denominado “magnetron” que es el lugar donde será colocado el elemento a ser pulverizado y depositado sobre un sustrato. Actualmente en Perú hay sistemas de Sputtering, sin embargo no se tiene mayor experiencia en la realización del diseño y construcción de magnetrones. Los magnetrones desbalanceados mejoran la calidad de los recubrimientos. Teniendo en cuenta este aspecto, esta tesis propone participar ...

The aim of this thesis is to set-up and put in operation a magnetron for targets of 2” diameter in order to produce metal-diamond like carbon (Me-DLC) films using the technique of magnetron sputtering. For this thesis were used targets of silver (Ag) and chromium (Cr) with 99.99% purity. Ag-DLC and Cr-DLC films have been deposited onto 2” diameter silicon wafers. The internal stress and the hardness of the films have been measured using the wafer curvature method and nanoindentation, respectively. The morphology and thickness of the films were measured by scanning electron microscopy (SEM). The composition and chemical structure were measured by Auger and Raman spectroscopy, respectively. The results for the Ag-DLC films show that the conditions to obtain a high hardness are associated to changes in their chemical composition product of the application of a bias voltage to the substr...