Fotorespuesta de las películas delgadas de óxido de Ti preparadas por "Sputtering"

• Autores: Gómez, Mónica M., Rodríguez, Juan, Lindquist, Sten Eric, Granqvist, Claes
• Formato: artículo
• Fecha de Publicación: 1999
• Institución: Universidad Nacional de Ingeniería
• Repositorio: UNI-Tesis
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:cybertesis.uni.edu.pe:20.500.14076/14475
• Enlace del recurso: http://hdl.handle.net/20.500.14076/14475; https://doi.org/10.21754/tecnia.v9i2.320
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Películas delgadas; Fotorespuestas

Películas de óxido de Ti policristalino fueron depositadas empleando DC "sputtering" reactivo con magnetron de platos de Ti en una atmósfera de O2+Ar sobre láminas de vidrio pre-cubiertas con ITO (óxido de indio dopado con estaño). Las fases anatasa y rutilo se obtuvieron por calentamiento del sustrato durante el depósito de las películas la eficiencia en la conversión foton-incidente-corriente (denominado "IPCE" de la expresión inglesa Incident Photon-to-Current Eficiency) se estudió en función de diferentes parámetros de preparación, tales como la temperatura del sustrato, el espesor de la película y la relación de flujos O/A r. la fotorespuesta se midió usando un sistema de tres electrodos empleando un electrolito acuoso de O.1 M de KI, que fue purgado con nitrógeno. El espectro de la fotorespuesta se obtuvo en un rango de longitud de onda entre 280 y 400 nm. Se encontró que la fotorespuesta dependió grandemente de la estequiometría del material. del espesor de las películas. así como de la estructura cristalina del óxido de Ti.