Cristalización y Propiedades Magnéticas de películas delgadas de Ni/SiO2 tratadas térmicamente

• Autor: Avalos Quispe, Oswaldo
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2015
• Institución: Universidad Nacional Mayor de San Marcos
• Repositorio: UNMSM-Tesis
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:cybertesis.unmsm.edu.pe:20.500.12672/4496
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.12672/4496
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Películas delgadas de níquel; Cristalizaciones; Propiedades magnéticas; https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00

En este trabajo se estudia la cristalización y propiedades magnéticas así como también la oxidación de películas delgadas de níquel (50 nm) fabricados por evaporación térmica convencional, resultante del recocido en aire a 300, 325, 350, 400 y 700 ºC. La caracterización se realiza por difracción de rayos x, espectroscopia Raman, dispositivo superconductor de interferencia cuántica magnetometría, y microscopía electrónica de barrido. Estas técnicas confirman que la oxidación aumenta con la temperatura de recocido. La formación de películas granulares de coexistente Ni y NiO se confirma después de recocido a 400 ºC. Las mediciones magnéticas muestran ferromagnetismo y anti - ferromagnetismo coexistiendo, correspondiente a Ni y NiO. Los ciclos de histéresis magnética revelan un corrimiento en las muestras recocidas a 325, 350 y 400 ºC, debido a la competencia entre las interacciones de intercambio en las interfaces de Ni/NiO.