“Condiciones favorables para la obtención de óxido de plata de chatarra electrónica tratada con ácido nítrico”

• Autores: Candiotti Serrano, Cristina Victoria, Ramos Salazar, Johana Cristina
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2017
• Institución: Universidad Nacional del Callao
• Repositorio: UNAC-Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.unac.edu.pe:20.500.12952/2869
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.12952/2869
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: La obtención de óxido de plata de chatarra electrónica; Ácido nítrico

Para la realización del presente trabajo se implementé el sistema de pruebas a nivel laboratorio donde se obtuvo óxido de plata al 99.9% de pureza, la chatarra electrónica previamente pesada se hizo reaccionar con 150 ml de ácido nítrico a diferentes concentraciones, las concentraciones usadas para el procedimiento realizado fue el siguiente: 264%, 2.08%, 1.54%, 1.01%; se llevó a una temperatura de 90- 95 °C durante 3 horas. Se monitoreo la reacción cada 5 minutos y se analizó la plata lixiviada por absorción atómica. La solución lixiviada de nitrato de platas más contaminantes (Cu, Fe y Cr), se precipitó con cloruro de sodio al 5%, obteniendo un precipitado de cloruro de plata, el cual fue recuperado y tratado por vía seca obteniéndose plata metálica pura. La plata metálica fue disuelta con ácido nítrico, luego se adicioné hidróxido de sodio al 5%, se obtuvo un precipitado de hidróxido de plata. Este precipitado fue luego deshidratado en una estufa a una temperatura menor de los 280 °C para obtener el óxido de plata. Finalmente se obtuvo óxido de plata al 99.9 % y la mejor condición de concentración de ácido nítrico fue 2.64%.