Mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica

Descripción del Articulo

En el presente trabajo se analizó y describió los diferentes mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica, el estudio se restringió a un enfoque teórico. El flujo atómico de los diversos mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Siancas Huerta, Manuel Reynaldo
Formato: tesis de grado
Fecha de Publicación:2023
Institución:Universidad Nacional de Piura
Repositorio:UNP-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.unp.edu.pe:20.500.12676/4427
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description En el presente trabajo se analizó y describió los diferentes mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica, el estudio se restringió a un enfoque teórico. El flujo atómico de los diversos mecanismos de electromigración en interconexiones de película delgada metálica fue determinado, asimismo se desarrolló una relación entre el tiempo de vida útil de una interconexión metálica de película delgada y la densidad de flujo de electromigración. Se establece que el mecanismo dominante del fenómeno de electromigración es el de difusión debido a la disminución de la energía de activación a través de los límites de grano.
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