Comparación In vitro de la resistencia adhesiva de los sistemas adhesivos Etch and Rinse (grabado y enjuague) y self etch (Autograbado)

Descripción del Articulo

El propósito del estudio fue comparar in vitro la resistencia adhesiva de los sistemas Etch and Rinse (grabado y enjuague), 4ta y 5ta generación; y los sistemas Self Etch (autograbado), 6ta y 7ma generación. Se realizó un estudio descriptivo, comparativo. Se utilizaron 20 terceros molares extraídos...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores: Miranda, Edwin, Cosio, Herbet
Formato: artículo
Fecha de Publicación:2019
Institución:Universidad Alas Peruanas
Repositorio:Revistas - Universidad Alas Peruanas
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:revistas.uap.edu.pe:article/1718
Enlace del recurso:http://revistas.uap.edu.pe/ojs/index.php/CYD/article/view/1718
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spelling Comparación In vitro de la resistencia adhesiva de los sistemas adhesivos Etch and Rinse (grabado y enjuague) y self etch (Autograbado)Miranda, EdwinCosio, HerbetEl propósito del estudio fue comparar in vitro la resistencia adhesiva de los sistemas Etch and Rinse (grabado y enjuague), 4ta y 5ta generación; y los sistemas Self Etch (autograbado), 6ta y 7ma generación. Se realizó un estudio descriptivo, comparativo. Se utilizaron 20 terceros molares extraídos por motivos ortodóncico y profilácticos. Los cuales fueron cortados por la mitad obteniendo 40 muestras, en forma aleatoria los dientes fueron divididos en cuatro grupos, 10 con 4ta generación, 10 con 5ta generación, 10 con 6ta generación y 10 con 7ma generación. Se realizó una prueba de tracción vertical medido en kilogramos fuerza, para luego ser transformados a megapascales (Mpa).Las resinas de 4ta generación obtuvieron una resistencia adhesiva de 29,9 Mpa, las de 5ta una resistencia de 16,9 Mpa, la de 6ta una resistencia de 27,5 Mpa y las de 7ma generación una resistencia de 11,0 Mpa. Los resultados se sometieron a pruebas de normalidad mediante la prueba de Shapiro Wilk, los mismos que fueron analizados mediante el ANOVA de un factor, encontrándose diferencias estadísticamente significativas entre los cuatro grupos de estudio con un valor p de 0,001. Se concluye que el sistema adhesivo de 4ta generación clasificado como Etch and Rinse presento mejor resistencia adhesiva, seguido del sistema adhesivo de 6ta generación clasificado como Self Etch.Universidad Alas Peruanas2019-06-12info:eu-repo/semantics/articleinfo:eu-repo/semantics/publishedVersionArtículo revisado por paresapplication/pdftext/htmlhttp://revistas.uap.edu.pe/ojs/index.php/CYD/article/view/171810.21503/cyd.v21i1.1592Ciencia y Desarrollo; Vol. 21, Núm. 1 (2018): Ciencia y Desarrollo; 23-282409-20451994-7224reponame:Revistas - Universidad Alas Peruanasinstname:Universidad Alas Peruanasinstacron:UAPspahttp://revistas.uap.edu.pe/ojs/index.php/CYD/article/view/1718/1655http://revistas.uap.edu.pe/ojs/index.php/CYD/article/view/1718/1938Copyright (c) 2019 Ciencia y Desarrollohttp://creativecommons.org/licenses/by/4.0info:eu-repo/semantics/openAccessoai:revistas.uap.edu.pe:article/17182019-11-22T15:21:33Z
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