Comparación In vitro de la resistencia adhesiva de los sistemas adhesivos Etch and Rinse (grabado y enjuague) y self etch (Autograbado)
Descripción del Articulo
El propósito del estudio fue comparar in vitro la resistencia adhesiva de los sistemas Etch and Rinse (grabado y enjuague), 4ta y 5ta generación; y los sistemas Self Etch (autograbado), 6ta y 7ma generación. Se realizó un estudio descriptivo, comparativo. Se utilizaron 20 terceros molares extraídos...
| Autores: | , |
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| Formato: | artículo |
| Fecha de Publicación: | 2019 |
| Institución: | Universidad Alas Peruanas |
| Repositorio: | Revistas - Universidad Alas Peruanas |
| Lenguaje: | español |
| OAI Identifier: | oai:revistas.uap.edu.pe:article/1718 |
| Enlace del recurso: | http://revistas.uap.edu.pe/ojs/index.php/CYD/article/view/1718 |
| Nivel de acceso: | acceso abierto |
| Sumario: | El propósito del estudio fue comparar in vitro la resistencia adhesiva de los sistemas Etch and Rinse (grabado y enjuague), 4ta y 5ta generación; y los sistemas Self Etch (autograbado), 6ta y 7ma generación. Se realizó un estudio descriptivo, comparativo. Se utilizaron 20 terceros molares extraídos por motivos ortodóncico y profilácticos. Los cuales fueron cortados por la mitad obteniendo 40 muestras, en forma aleatoria los dientes fueron divididos en cuatro grupos, 10 con 4ta generación, 10 con 5ta generación, 10 con 6ta generación y 10 con 7ma generación. Se realizó una prueba de tracción vertical medido en kilogramos fuerza, para luego ser transformados a megapascales (Mpa).Las resinas de 4ta generación obtuvieron una resistencia adhesiva de 29,9 Mpa, las de 5ta una resistencia de 16,9 Mpa, la de 6ta una resistencia de 27,5 Mpa y las de 7ma generación una resistencia de 11,0 Mpa. Los resultados se sometieron a pruebas de normalidad mediante la prueba de Shapiro Wilk, los mismos que fueron analizados mediante el ANOVA de un factor, encontrándose diferencias estadísticamente significativas entre los cuatro grupos de estudio con un valor p de 0,001. Se concluye que el sistema adhesivo de 4ta generación clasificado como Etch and Rinse presento mejor resistencia adhesiva, seguido del sistema adhesivo de 6ta generación clasificado como Self Etch. |
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Nota importante:
La información contenida en este registro es de entera responsabilidad de la institución que gestiona el repositorio institucional donde esta contenido este documento o set de datos. El CONCYTEC no se hace responsable por los contenidos (publicaciones y/o datos) accesibles a través del Repositorio Nacional Digital de Ciencia, Tecnología e Innovación de Acceso Abierto (ALICIA).
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