Determination of contaminant ablation parameters on OHP sheets using an Nd:YAG laser and its application in laser cleaning

Descripción del Articulo

En este trabajo se determinaron los parámetros para la limpieza por ablación láser de contaminantes depositados mediante atracción electrostática sobre sustratos de láminas de acetato de celulosa (OHP) y su análisis mediante la medición de la transmitancia de la superficie irradiada en función de la...

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Detalles Bibliográficos
Autores: Nazario-Naveda, R., Delfín-Narciso, D., Agreda-Delgado, J., Aldama-Reyna, W., Rojas-Flores, S., Benites, Santiago M.
Formato: artículo
Fecha de Publicación:2022
Institución:Universidad Autónoma del Perú
Repositorio:AUTONOMA-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.autonoma.edu.pe:20.500.13067/2596
Enlace del recurso:https://hdl.handle.net/20.500.13067/2596
https://doi.org/10.18687/LACCEI2022.1.1.466
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Láser
Transmitancia
Ablación
Energía
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.07.00
Descripción
Sumario:En este trabajo se determinaron los parámetros para la limpieza por ablación láser de contaminantes depositados mediante atracción electrostática sobre sustratos de láminas de acetato de celulosa (OHP) y su análisis mediante la medición de la transmitancia de la superficie irradiada en función de la energía por pulso de un láser Nd:YAG. La energía fue controlada mediante el tiempo de retraso del Q-switch usando longitudes de onda en la región infrarroja de 1064 nm y luz visible verde de 532 nm. Se utilizó un máximo de 10 pulsos láser con una frecuencia de 1 Hz sobre lo s sustratos con contaminantes con 9 μm y 11 μm de espesor. Se encontró que para la limpieza láser sin daños de sustratos de la s láminas OHP, es conveniente usar una longitud de onda de 1064 nm, con una fluencia de 0.4 J/cm2 y usando un máximo de 6 pulsos. Se verificaron las ventajas de la radiación láser pulsada en la limpieza no destructiva de sustratos con contaminantes y el análisis de la transmitancia del sustrato en el monitoreo de los procesos de interacción láser-materia.
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