Implementa un sistema de magnetrón sputtering de caras opuestas el cual se ensambló el Laboratorio de Síntesis y Caracterización deMateriales de la Universidad Nacional Mayor de San Marcos (UNMSM). La implementación del sistema se llevó a cabo teniendo en cuenta las especificaciones de los sistemas de sputtering actuales. Finalmente, para verificar el funcionamiento de este equipo se realizó el crecimiento de películas delgadas de Hidroxiapatita (HAp) a diferentes tiempos de crecimientos partiendo de blancos (targets) de HAp. La potencia usada en el sistema de sputtering fue de 120 W con una mezcla de gases de Ar y O2 en una relación de 5 a 1. La caracterización del plasma se realizó mediante espectroscopia óptica de emisión (EOS), mientras que la caracterización morfológica de las películas delgadas se realizó mediante microscopía óptica y microscopia electrónica de ...