Diseño de un proceso para la desalinización de agua salobre subterránea empleando tecnología ósmosis inversa

Descripción del Articulo

El presente trabajo realiza el diseño de un proceso de desalinización de agua solobre subterránea por tecnología de ósmosis inversa, aplicado para dos tipos de procesos, la primera para uso de producción de concreto premezclado y la segunda para producción de pinturas acrílicas con una misma fuente...

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Detalles Bibliográficos
Autor: Ubillus Borja, Miguel Ángel
Formato: tesis de grado
Fecha de Publicación:2011
Institución:Universidad Nacional del Callao
Repositorio:UNAC-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.unac.edu.pe:20.500.12952/412
Enlace del recurso:https://hdl.handle.net/20.500.12952/412
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Agua salobre subterranea
Ósmosis inversa
Descripción
Sumario:El presente trabajo realiza el diseño de un proceso de desalinización de agua solobre subterránea por tecnología de ósmosis inversa, aplicado para dos tipos de procesos, la primera para uso de producción de concreto premezclado y la segunda para producción de pinturas acrílicas con una misma fuente de agua localizada en el distrito de Villa El Salvador, provincia de Lima, latitud S 12° 12.3493' y longitud W 76° 58.4812' y una producción de agua de 200 metros cúbicos por día en cada caso. En el desarrollo del diseño de proceso se estableció los valores óptimos de operación de menbranas tales como pH 6.2 y recuperación máxima de 64% de agua osmotizada, previo a la simulación se ha seleccionado la marca de menbranas Toray y sus modelos TM720-430 para alta y baja presión. Asímismo y siguiendo los lineamientos de diseño Toray se obtuvo un total de 10 menbranas de medidas 8'' de diámetro x 40'' de longitud para cada aplicación, considerándose el modelo TM720-430 para la aplicación de pinturas acrílicas y el modelo TMG-430 para la aplicación de concreto premezclado, también se ha empleado el software Advisor 2 de la empresa Avista Technologies para calcular la cantidad en mg/L de anti-incrustante, obteniendo un valor de 2 ppm independiente de la aplicación seleccionada.
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