Adhesión self etch vs etch and rinse en molares y su resistencia a las fuerzas de tracción vertical, realizado en el laboratorio de la escuela profesional de Estomatología de la Universidad Alas Peruanas filial Cusco 2017

• Autor: Vargas Robles, Hildrex Evans
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2017
• Institución: Universidad Alas Peruanas
• Repositorio: UAP-Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.uap.edu.pe:20.500.12990/7354
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.12990/7354
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Self etch; Etch and rinse; http://purl.org/pe-repo/ocde/ford#3.02.14

El presente trabajo de investigación cuyo epígrafe es “Adhesión self etch vs etch and rinse en molares y su resistencia a las fuerzas de tracción vertical, realizado en el laboratorio de la escuela profesional de Estomatología de la Universidad Alas Peruanas filial Cusco 2017” Teniendo como problema principal ¿Cuál será el grado de adhesión self etch vs etch and rinse en molares y su resistencia a las fuerzas de tracción vertical, realizado en el laboratorio de la Escuela Profesional de Estomatología de la Universidad Alas Peruanas Filial Cusco 2017?, y su objetivo principal, analizar el grado de adhesión self etch vs etch and rinse en molares y su resistencia a las fuerzas de tracción vertical, se hicieron uso de 40 piezas dentarias naturales las cuales estarán divididas en 2 grupos y estas a la vez en 2 sub grupos los grupos fueron sometidos a cortes realizados a 1mm por encima del ecuador dentario con la finalidad de lograr una adhesión directa entre adhesivo y diente, dichas muestras fueron sometidas a un tensiómetro elaborado por un grupo de docentes el cual aplico las fuerzas de tracción vertical, estas medidas fueron registradas en nuestro instrumento de recolección de datos. El enfoque de investigación en cuanto al diseño metodológico fue comparativo. Así mismo es de alcance prospectivo, transversal, analítico. Los resultados fueron; los adhesivos de 4ta generación obtuvieron una desviación estándar de 5,46 Mpa. En los adhesivos de 4ta generación se presentaron resistencias mínimas de hasta 24,45 Mpa, además los adhesivos de 6ta generación obtuvieron una desviación estándar de 9,37 Mpa. En los adhesivos de 6ta generación se presentaron resistencias mínimas de hasta 7,59 Mpay por ultimo sistemas adhesivos de 4ta y 6ta generación resultaron ser mejores en cuanto a la resistencia adhesiva a las fuerzas de tracción vertical, que los sistemas adhesivos de 5ta y 7ma generación. Así mismo los sistemas adhesivos de 4ta generación resultaron siendo mejor dentro de los adhesivos Etch and Rinse y el sistema adhesivo de 6ta generación resulto siendo mejor dentro de los sistemas adhesivos Self Etch.