Resistencia de unión de tres protocolos adhesivos al esmalte dental después del uso de dentífricos blanqueadores
Descripción del Articulo
El propósito del estudio fue evaluar la resistencia de unión de tres protocolos adhesivos al esmalte dental después del uso de dentífricos blanqueadores. Se prepararon 45 muestras divididas aleatoriamente en 3 grupos de acuerdo a su exposición a un dentífrico (n=15): grupo sin exposición a dentífric...
Autor: | |
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Fecha de Publicación: | 2018 |
Institución: | Universidad Peruana Cayetano Heredia |
Repositorio: | UPCH-Institucional |
Lenguaje: | español |
OAI Identifier: | oai:repositorio.upch.edu.pe:20.500.12866/3561 |
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El propósito del estudio fue evaluar la resistencia de unión de tres protocolos adhesivos al esmalte dental después del uso de dentífricos blanqueadores. Se prepararon 45 muestras divididas aleatoriamente en 3 grupos de acuerdo a su exposición a un dentífrico (n=15): grupo sin exposición a dentífrico (control), grupo expuesto al dentífrico abrasivo Colgate Luminous White (Colgate Palmolive, Guanajuato, México) y grupo expuesto al dentífrico blanqueador Colgate Luminous White Advanced Expert (Colgate Palmolive, Guanajuato, México). Las muestras se cepillaron con cepillo eléctrico 2 veces al día durante 21 días, el grupo control se almacenó en agua destilada hasta su uso. Después del último ciclo de cepillado, cada grupo se dividió en 3 subgrupos de acuerdo al protocolo adhesivo (n=5): Convencional (grabado y lavado) con Adper Single Bond 2 (3M ESPE, St. Paul, EE.UU.), Universal (autograbado) con Scotchbond Universal (3M ESPE, St. Paul, EE.UU.) y AF-Universal (con previo grabado del esmalte) con Scotchbond Universal (3M ESPE, St. Paul, EE.UU.), siguiendo las indicaciones del fabricante. Se colocaron 3 cilindros de resina sobre la superficie del esmalte. Después de 24 horas las muestras fueron sometidas a prueba de microcizallamiento. Se utilizó microscopio estereoscópico para identificar los patrones de falla. Se aplicó ANOVA/Tukey con un nivel de significancia de 0.05%. Los mayores valores de resistencia de unión se encontraron en el grupo Blanqueador + AF-Universal (39.60 MPa), seguido del grupo Abrasivo + Convencional (38.68 MPa), en tercer lugar el grupo Convencional sin exposición a dentífrico (34.60 MPa). La resistencia de unión al esmalte dental con un sistema adhesivo convencional y un adhesivo universal (autograbado) disminuyó cuando se expuso a un dentífrico blanqueador, excepto cuando el adhesivo universal fue aplicado con previo grabado ácido. |
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La resistencia de unión al esmalte dental con un sistema adhesivo convencional y un adhesivo universal (autograbado) disminuyó cuando se expuso a un dentífrico blanqueador, excepto cuando el adhesivo universal fue aplicado con previo grabado ácido.Submitted by Yazmin Zelaya (yazmin.zelaya.b@upch.pe) on 2018-05-07T20:44:05Z No. of bitstreams: 1 Resistencia_EstradaSuarez_Dante.pdf: 2576925 bytes, checksum: 4f3ea1bea5833ac1ad1322282d8bcd4e (MD5)Approved for entry into archive by Tatiana Obregón (tatiana.obregon.s@upch.pe) on 2018-05-08T23:29:50Z (GMT) No. of bitstreams: 1 Resistencia_EstradaSuarez_Dante.pdf: 2576925 bytes, checksum: 4f3ea1bea5833ac1ad1322282d8bcd4e (MD5)Approved for entry into archive by Yazmin Zelaya (yazmin.zelaya.b@upch.pe) on 2018-05-09T14:53:00Z (GMT) No. of bitstreams: 1 Resistencia_EstradaSuarez_Dante.pdf: 2576925 bytes, checksum: 4f3ea1bea5833ac1ad1322282d8bcd4e (MD5)Made available in DSpace on 2018-05-09T14:53:38Z (GMT). No. of bitstreams: 1 Resistencia_EstradaSuarez_Dante.pdf: 2576925 bytes, checksum: 4f3ea1bea5833ac1ad1322282d8bcd4e (MD5) Previous issue date: 2018application/pdfspaUniversidad Peruana Cayetano HerediaPEinfo:eu-repo/semantics/openAccesshttps://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/deed.esRecubrimiento Dental AdhesivoEsmalte DentalDentífricosBlanqueadores Dentaleshttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#3.02.14Resistencia de unión de tres protocolos adhesivos al esmalte dental después del uso de dentífricos blanqueadoresinfo:eu-repo/semantics/monographreponame:UPCH-Institucionalinstname:Universidad Peruana Cayetano Herediainstacron:UPCHEspecialista en Odontología Restauradora y EstéticaUniversidad Peruana Cayetano Heredia. 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