Efectos del método de aplicación y tiempo de fotopolimerización de un nuevo adhesivo autograbador.

• Autores: Pérez Rodriguez, Virginia Betzabé, Castillo Moreno, Claudia Mireya, Guevara Paez, Ronald, Peña Castillo, Mauricio, Mongruel Gomes, Osnara Maria, Dominguez, John Alexis
• Formato: artículo
• Fecha de Publicación: 2014
• Institución: Universidad Peruana Cayetano Heredia
• Repositorio: Revistas - Universidad Peruana Cayetano Heredia
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:revistas.upch.edu.pe:article/2109
• Enlace del recurso: https://revistas.upch.edu.pe/index.php/REH/article/view/2109
• Nivel de acceso: acceso abierto

Objetivo: Evaluar el método de aplicación y tiempo de fotopolimerización de dos sistemas adhesivosautograbadores sobre esmalte. Materiales y Métodos: Fueron utilizados 30 molares, los cuales fueron divididosen 8 grupos de 10 muestras cada uno a los cuales se les aplico dos tipos de adhesivos autograbadores (1 Adhesey 2 Universal Single bond) de manera activa y pasiva con diferentes tiempos de fotopolimerización para evaluarla resistencia de unión de estos adhesivos autograbadores, después de la conformación de los tygon fue llevado amicrocizallamiento. Resultados: Mostraron que la extensión de irradiación de luz para los adhesivos (1 Adhesey 2 Universal Single bond) no dio diferencia signifi cativamente independientemente del tipo de aplicación(p> 0.005). En cuanto al tipo de aplicación si hubo diferencia signifi cativa para los dos adhesivos ( p<005).Conclusiones: La aplicación activa aumenta los valores de resistencia de unión en adhesivos autograbadores deun paso y dos pasos en esmalte.