Identificación de ácido hipúrico y fenoles en orina de trabajadores, con exposición laboral, de imprentas del Centro Comercial Lima, Cercado de Lima

• Autor: Olivera Cueva, Carlos Eduardo
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2018
• Institución: Universidad Privada Norbert Wiener
• Repositorio: UWIENER-Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.uwiener.edu.pe:20.500.13053/1672
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.13053/1672
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Benceno; Tolueno; Fenoles totales; Ácido hipúrico.

En el presente trabajo realizamos la identificación de los niveles de fenoles y acido hipúrico en orina de cuarenta trabajadores que laboran en las imprentas del Cercado de Lima quienes utilizan frecuentemente los solventes orgánicos tales como benceno y tolueno en concentraciones que van de 1% a 3%. La cuantificación de fenoles totales y ácido hipúrico fue realizada por el método espectrofotométrico de Banfi y Marenzi y por el método de titulación de Weichselbaum y Probstein respectivamente. El promedio de fenoles totales hallados es de 222,35 mg/L y de ácido hipúrico es de 2.048 g/L. Estos valores nos indican exposición tanto para el benceno como para el tolueno ya que superan valores referenciales en orina, dadas por la OMS, 75mg/L para fenoles y es de 0.4 a 1.4 g/L para ácido hipúrico. Los estudios toxicológicos se realizaron en el laboratorio de toxicología y química legal de la Facultad de Farmacia y Bioquímica de la Universidad Norbert Wiener.