Efecto del fosetil aluminio y oxamilo sobre la germinación, crecimiento y la capacidad antagonista de Trichoderma asperellum, Trichoderma atroviride y Trichoderma harzianum en condiciones de laboratorio.

• Autor: Mannucci Macines, Maria Del Carmen
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2015
• Institución: Universidad Nacional de Trujillo
• Repositorio: UNITRU-Tesis
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:dspace.unitru.edu.pe:20.500.14414/4569
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.14414/4569
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Trichoderma atroviride, Trichoderma asperellum, Trichoderma harzianum

Se evaluó el efecto del fosetil aluminio y oxamilo sobre la germinación, crecimiento, y la capacidad antagonista de Trichoderma asperellum, Trichoderma atroviride y Trichoderma harzianum en condiciones de laboratorio. Se trabajó con dos concentraciones de fosetil aluminio (6000 ppm y 10000 ppm), de igual manera con oxamilo (960 ppm y 1200 ppm) con sus respectivos controles (0ppm). El efecto del fosetil aluminio y oxamilo sobre la germinación se determinó adicionando 1mL de cada dilución (doble concentrado) de cada uno de ellos a frasquitos de penicilina que contenían 1 mL de suspensión de esporas estandarizadas de Trichoderma asperellum, Trichoderma atroviride y Trichoderma harzianum. incubándose a 25°C por 24 horas; se realizó el recuento de esporas germinadas de cada concentración. Para determinar el efecto de los químicos sobre el crecimiento se incorporó las concentraciones de cada uno de ellos en Agar Papa Sacarosa, y se sirvió en placas de Petri, con sus respectivos controles, luego se sembró por puntura Trichoderma asperellum, Trichoderma atroviride y Trichoderma harzianum. en la parte central e incubó a temperatura ambiente. A partir del segundo día de siembra se realizó la medición en centímetros el radio de crecimiento micelial, hasta que el hongo cubra toda la superficie de la placa control. Para evaluar la capacidad antagonista, de cada placa con el químico que evidenció crecimiento se enfrentó con Rhizoctonia sp. en cultivo dual. Se encontró que fosetil aluminio inhibe la germinación y el crecimiento de Trichoderma asperellum, Trichoderma atroviride y Trichoderma harzianum al obtener como resultados 0% tanto en la germinación como en el crecimiento, no presentando capacidad antagonista. Sin embargo los resultados con oxamilo demuestran que las concentraciones de éste no afectan significativamente en la germinación ni en el crecimiento, además no inhibe la capacidad antagonista de Trichoderma asperellum, Trichoderma atroviride y Trichoderma harzianum, al crecer completamente sobre la colonia del patógeno (Rhizoctonia sp.).