Evaluación de la concentración y el tiempo de contacto de nanopartículas de SiO2 en la desinfección fúngica de B. cinerea Pers en cultivos de maíz (Zea mays) contaminado por agua residuales domésticas

• Autor: Ciriaco Chuquillanqui, Geovana
• Formato: tesis de maestría
• Fecha de Publicación: 2024
• Institución: Universidad Nacional del Centro del Perú
• Repositorio: UNCP - Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.uncp.edu.pe:20.500.12894/10665
• Enlace del recurso: http://hdl.handle.net/20.500.12894/10665
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Porcentaje de inhibición; botrytis cinerea; nanopartículas; silicio; maíz; https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.04.00

El hongo fitopatógeno Botrytis cinerea pers es una amenaza común para el cultivo de maíz en la región central, lo que resulta en pérdidas económicas para los agricultores. El objetivo de este trabajo fue investigar cómo la concentración y el tiempo de exposición a las nanopartículas de SiO2 pueden afectar en la desinfección fúngica de B. cinerea pers en granos de maíz (Zea mays) contaminado por aguas residuales domésticas. El estudio se realizó utilizando una investigación aplicada, de nivel explicativo, empleando el método de investigación experimental con una muestra de 27 mazorcas de maíz infectadas por B. cinerea Pers, aplicando el diseño factorial con tres niveles, dos variables independientes y tres réplicas (32x3). Las variables independientes fueron el tiempo de contacto (2, 5 y 7 días) y la concentración de nanopartículas de óxido de silicio (2000, 4000 y 6000 mg/L), efectos que fueron observados en la variable dependiente, siendo esta la inhibición del crecimiento micelial, medida en milímetros de halo de inhibición. Para procesar y analizar los resultados, se utilizaron pruebas estadísticas como la prueba de normalidad, el análisis de varianza (ANOVA) y otros, utilizando programas estadísticos como SPSS y Minitab para el procesamiento de los datos e interpretación de los resultados. La caracterización de las nanopartículas de oxido de silicio por técnicas como la dispersión de luz dinámica (DLS) y microscopía electrónica de barrido (SEM) mostraron diámetros de 22.1 y 20.52 nm, respectivamente. Los resultados mostraron que a medida que se incrementa la concentración de nanopartículas, también se incrementa el porcentaje de inhibición del crecimiento del hongo y a medida que pasaba el tiempo, el hongo era inhibido de forma positiva hasta alcanzar los 5 días de tratamiento.