Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas

Descripción del Articulo

Un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas a bajas temperaturas fue implementado empleando un sistema criogénico de ciclo cerrado de helio, un sistema de control de temperatura y un sistema de medición de resistividad. A fin de verificar el sistema implementado, seis cont...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Llontop López-Dávalos, Paul David
Formato: tesis de maestría
Fecha de Publicación:2017
Institución:Pontificia Universidad Católica del Perú
Repositorio:PUCP-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.pucp.edu.pe:20.500.14657/144985
Enlace del recurso:http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Semiconductores
Películas delgadas
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00
id RPUC_bb5c02c70ba46b1248374e96a7e89844
oai_identifier_str oai:repositorio.pucp.edu.pe:20.500.14657/144985
network_acronym_str RPUC
network_name_str PUCP-Institucional
repository_id_str 2905
spelling Weingärtner, RolandLlontop López-Dávalos, Paul David2017-05-25T22:31:13Z2017-05-25T22:31:13Z20172017-05-25http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685Un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas a bajas temperaturas fue implementado empleando un sistema criogénico de ciclo cerrado de helio, un sistema de control de temperatura y un sistema de medición de resistividad. A fin de verificar el sistema implementado, seis contactos de aluminio fueron depositados a lo largo de cada diagonal sobre una muestra cuadrada de silicio tipo p de bajo dopaje para medir su resistividad a diferentes temperaturas a partir de 66K. La magnitud del error de medición en función de la distancia de los contactos respecto a las esquinas de la muestra fue determinada por dos métodos. La discusión de la dependencia de la resistividad con la temperatura fue realizada con los resultados de menor error.A low temperature thin film electrical resistivity measurement system was implemented by employing a closed cycle helium cryogenic system, a temperature control system and a resistivity measurement system. In order to verify the implemented system, six Al contacts were deposited along each diagonal on a square low doped p-type Si sample for resistivity measurement at different temperatures starting at 66K. Measurement error magnitude as a function of the contact distance relative to the sample corners was determined by two methods. Discussion of the temperature dependence of resistivity was carried out with the lowest error results.spaPontificia Universidad Católica del PerúPEinfo:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/SemiconductoresPelículas delgadashttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturasinfo:eu-repo/semantics/masterThesisTesis de maestríareponame:PUCP-Institucionalinstname:Pontificia Universidad Católica del Perúinstacron:PUCPMaestro en FísicaMaestríaPontificia Universidad Católica del Perú. Escuela de PosgradoFísica533017https://purl.org/pe-repo/renati/level#maestrohttp://purl.org/pe-repo/renati/type#tesis20.500.14657/144985oai:repositorio.pucp.edu.pe:20.500.14657/1449852024-06-10 10:55:03.178http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/info:eu-repo/semantics/openAccessmetadata.onlyhttps://repositorio.pucp.edu.peRepositorio Institucional de la PUCPrepositorio@pucp.pe
dc.title.es_ES.fl_str_mv Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
title Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
spellingShingle Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
Llontop López-Dávalos, Paul David
Semiconductores
Películas delgadas
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00
title_short Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
title_full Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
title_fullStr Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
title_full_unstemmed Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
title_sort Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
author Llontop López-Dávalos, Paul David
author_facet Llontop López-Dávalos, Paul David
author_role author
dc.contributor.advisor.fl_str_mv Weingärtner, Roland
dc.contributor.author.fl_str_mv Llontop López-Dávalos, Paul David
dc.subject.es_ES.fl_str_mv Semiconductores
Películas delgadas
topic Semiconductores
Películas delgadas
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00
dc.subject.ocde.es_ES.fl_str_mv https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00
description Un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas a bajas temperaturas fue implementado empleando un sistema criogénico de ciclo cerrado de helio, un sistema de control de temperatura y un sistema de medición de resistividad. A fin de verificar el sistema implementado, seis contactos de aluminio fueron depositados a lo largo de cada diagonal sobre una muestra cuadrada de silicio tipo p de bajo dopaje para medir su resistividad a diferentes temperaturas a partir de 66K. La magnitud del error de medición en función de la distancia de los contactos respecto a las esquinas de la muestra fue determinada por dos métodos. La discusión de la dependencia de la resistividad con la temperatura fue realizada con los resultados de menor error.
publishDate 2017
dc.date.accessioned.es_ES.fl_str_mv 2017-05-25T22:31:13Z
dc.date.available.es_ES.fl_str_mv 2017-05-25T22:31:13Z
dc.date.created.es_ES.fl_str_mv 2017
dc.date.issued.fl_str_mv 2017-05-25
dc.type.es_ES.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
dc.type.other.none.fl_str_mv Tesis de maestría
format masterThesis
dc.identifier.uri.none.fl_str_mv http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685
url http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685
dc.language.iso.es_ES.fl_str_mv spa
language spa
dc.rights.es_ES.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri.*.fl_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
dc.publisher.es_ES.fl_str_mv Pontificia Universidad Católica del Perú
dc.publisher.country.es_ES.fl_str_mv PE
dc.source.none.fl_str_mv reponame:PUCP-Institucional
instname:Pontificia Universidad Católica del Perú
instacron:PUCP
instname_str Pontificia Universidad Católica del Perú
instacron_str PUCP
institution PUCP
reponame_str PUCP-Institucional
collection PUCP-Institucional
repository.name.fl_str_mv Repositorio Institucional de la PUCP
repository.mail.fl_str_mv repositorio@pucp.pe
_version_ 1835639147895717888
score 13.968331
Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas
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