Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores

Descripción del Articulo

En el presente trabajo se diseñó, fabricó e instaló un equipo de alto vacío, en el laboratorio de Ciencia de los materiales de la Sección de Física de la Pontificia Universidad católica del Perú. Esto se logró con apoyo del proyecto de investigación Preparation and characterization of amorphous thin...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Gálvez Del Villar, José Armando
Formato: tesis de grado
Fecha de Publicación:2008
Institución:Pontificia Universidad Católica del Perú
Repositorio:PUCP-Institucional
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:repositorio.pucp.edu.pe:20.500.14657/155215
Enlace del recurso:http://hdl.handle.net/20.500.12404/382
Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Maquinaria--Diseño
Películas delgadas--Equipo y accesorios
Tecnología del vacío
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.03.01
id RPUC_3509c3af4ff0b95ecfe8f69ec5e241a6
oai_identifier_str oai:repositorio.pucp.edu.pe:20.500.14657/155215
network_acronym_str RPUC
network_name_str PUCP-Institucional
repository_id_str 2905
spelling Gálvez Del Villar, José Armando2011-05-09T07:33:24Z2011-05-09T07:33:24Z20082011-05-09http://hdl.handle.net/20.500.12404/382En el presente trabajo se diseñó, fabricó e instaló un equipo de alto vacío, en el laboratorio de Ciencia de los materiales de la Sección de Física de la Pontificia Universidad católica del Perú. Esto se logró con apoyo del proyecto de investigación Preparation and characterization of amorphous thin (AlN)x(SiC)1x films using dc magnetron sputtering and pulsed láser deposition, que desarrollan en conjunto la Universidad ErlangenNürnberg de Alemania y la Pontificia Universidad católica del Perú. El equipo consta de una cámara de alto vacío, un manipulador para la muestra y tres magnetrones flexibles. El equipo trabaja con una presión al interior de la cámara de 107 mbar, requerimiento importante para usar el método de deposición de metales conocido como sputtering, el cual permite obtener películas delgadas de semiconductores como carburo de silicio y nitruro de aluminio.spaPontificia Universidad Católica del PerúPEinfo:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/Maquinaria--DiseñoPelículas delgadas--Equipo y accesoriosTecnología del vacíohttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.03.01Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductoresinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisTesis de licenciaturareponame:PUCP-Institucionalinstname:Pontificia Universidad Católica del Perúinstacron:PUCPIngeniero MecánicoTítulo ProfesionalPontificia Universidad Católica del Perú. Facultad de Ciencias e IngenieríaIngeniería Mecánica713046https://purl.org/pe-repo/renati/level#tituloProfesionalhttps://purl.org/pe-repo/renati/type#tesis20.500.14657/155215oai:repositorio.pucp.edu.pe:20.500.14657/1552152024-07-08 09:15:30.599http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/info:eu-repo/semantics/openAccessmetadata.onlyhttps://repositorio.pucp.edu.peRepositorio Institucional de la PUCPrepositorio@pucp.pe
dc.title.es_ES.fl_str_mv Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
title Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
spellingShingle Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
Gálvez Del Villar, José Armando
Maquinaria--Diseño
Películas delgadas--Equipo y accesorios
Tecnología del vacío
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.03.01
title_short Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
title_full Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
title_fullStr Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
title_full_unstemmed Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
title_sort Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
author Gálvez Del Villar, José Armando
author_facet Gálvez Del Villar, José Armando
author_role author
dc.contributor.author.fl_str_mv Gálvez Del Villar, José Armando
dc.subject.es_ES.fl_str_mv Maquinaria--Diseño
Películas delgadas--Equipo y accesorios
Tecnología del vacío
topic Maquinaria--Diseño
Películas delgadas--Equipo y accesorios
Tecnología del vacío
https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.03.01
dc.subject.ocde.es_ES.fl_str_mv https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#2.03.01
description En el presente trabajo se diseñó, fabricó e instaló un equipo de alto vacío, en el laboratorio de Ciencia de los materiales de la Sección de Física de la Pontificia Universidad católica del Perú. Esto se logró con apoyo del proyecto de investigación Preparation and characterization of amorphous thin (AlN)x(SiC)1x films using dc magnetron sputtering and pulsed láser deposition, que desarrollan en conjunto la Universidad ErlangenNürnberg de Alemania y la Pontificia Universidad católica del Perú. El equipo consta de una cámara de alto vacío, un manipulador para la muestra y tres magnetrones flexibles. El equipo trabaja con una presión al interior de la cámara de 107 mbar, requerimiento importante para usar el método de deposición de metales conocido como sputtering, el cual permite obtener películas delgadas de semiconductores como carburo de silicio y nitruro de aluminio.
publishDate 2008
dc.date.created.es_ES.fl_str_mv 2008
dc.date.accessioned.es_ES.fl_str_mv 2011-05-09T07:33:24Z
dc.date.available.es_ES.fl_str_mv 2011-05-09T07:33:24Z
dc.date.issued.fl_str_mv 2011-05-09
dc.type.es_ES.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/bachelorThesis
dc.type.other.none.fl_str_mv Tesis de licenciatura
format bachelorThesis
dc.identifier.uri.none.fl_str_mv http://hdl.handle.net/20.500.12404/382
url http://hdl.handle.net/20.500.12404/382
dc.language.iso.es_ES.fl_str_mv spa
language spa
dc.rights.es_ES.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
dc.rights.uri.*.fl_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
eu_rights_str_mv openAccess
rights_invalid_str_mv http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/
dc.publisher.es_ES.fl_str_mv Pontificia Universidad Católica del Perú
dc.publisher.country.es_ES.fl_str_mv PE
dc.source.none.fl_str_mv reponame:PUCP-Institucional
instname:Pontificia Universidad Católica del Perú
instacron:PUCP
instname_str Pontificia Universidad Católica del Perú
instacron_str PUCP
institution PUCP
reponame_str PUCP-Institucional
collection PUCP-Institucional
repository.name.fl_str_mv Repositorio Institucional de la PUCP
repository.mail.fl_str_mv repositorio@pucp.pe
_version_ 1835639047278559232
score 13.772021
Diseño, fabricación e instalación de un equipo en alto vacío para preparar muestras de películas delgadas de semiconductores
Nota importante:
La información contenida en este registro es de entera responsabilidad de la institución que gestiona el repositorio institucional donde esta contenido este documento o set de datos. El CONCYTEC no se hace responsable por los contenidos (publicaciones y/o datos) accesibles a través del Repositorio Nacional Digital de Ciencia, Tecnología e Innovación de Acceso Abierto (ALICIA).

Ejemplares Similares