Fabricación y Análisis de películas metálicas ferromagnéticas adheridas a subestratos semiconductores mediante deposición electroquímica

• Autor: Scheck, Christian
• Formato: tesis doctoral
• Fecha de Publicación: 2004
• Institución: Superintendencia Nacional de Educación Superior Universitaria
• Repositorio: Registro Nacional de Trabajos conducentes a Grados y Títulos - RENATI
• Lenguaje: inglés
• OAI Identifier: oai:renati.sunedu.gob.pe:renati/530
• Enlace del recurso: http://renati.sunedu.gob.pe/handle/sunedu/155208
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Electrodeposición; Semiconductor; Película delgada; Epitaxial; http://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.03

Se presentan las propiedades estructurales y magnéticas de las películas de níquel (Ni), cobalto (Co) y hierro (Fe)crecidas por electrodeposición a partir de soluciones de sulfatos directamente sobre las superficies de semiconductor de galio arsénico (GaAs) tipo-n. En particular, se discuten las condiciones en las que se obtienen películas delgadas continuas con ausencia de inter-difusión o segregación superficial de arsénico (As) o galio (Ga) en la interface y propiedades eléctricas/magnéticas resultantes que confirman la alta calidad de las películas ferromagnéticas y de sus interfaces. Paralelamente, se presentan resultados experimentales para elucidar el crecimiento sin electrolito de estructura de cobre (Cu) a partir de soluciones de sulfato sobre substrato de silicona (Si) tipo-p mediante iluminación láser. Se demuestra la dependencia de las dimensiones estructurales con la duración, intensidad y longitud de onda de la iluminación y de la vida útil del portador en el semiconductor p-Si. Finalmente , se investiga el crecimiento de patrones metálicos foto – inducidos sin electrolisis a través de máscaras ópticas donde se demuestra la electro-deposición selectiva de Co y Ni sobre un patrón dopado n y p en una superficie de GaAs y Si.