Objetivo: Determinar in vitro la resistencia al cizallamiento de la resina compuesta nanotecnológica Filtek Bulk Fill® con fotopolimerización continua y discontinua en el año 2018. Materiales y métodos: Se realizó un estudio de nivel explicativo tipo experimental, prospectivo, longitudinal, analítico. La muestra fue 34 bloques de resina distribuidos según la fotopolimerización 17 para continua y 17 discontinua. La medida de los bloques fue 3mm de diámetro por 3mm de altura (resina reparadora) con bloques de base de 4mm de diámetro y 4mm de altura y un mango de acrílico rosado de 8mm de diámetro por 1cm de altura abrazando la resina base. El instrumento fue la máquina digital de ensayos universales CMT-5L marca LG a una velocidad de 5mm por minuto hasta alcanzar la fractura en la unión resina-resina calibrados en High Technology Laboratory Certicate. Resultados: La resina F...