En este trabajo se implementó un Sistema de Crecimiento de Películas Delgadas por la Técnica de Pulverización Catódica (Sputtering) por corriente directa (DC). Usando este sistema y a partir de un blanco de In0.90Sn0.05Cr0.05, películas policristalinas de In2O3 dopados con Estaño (Sn) y Cromo (Cr), fueron crecidas sobre sustratos de vidrio a temperatura ambiente, con una presión de trabajo ~1.0x10-1mbar y a diferentes tiempos de 3h, 6h, 8h y de crecimiento 9 horas. Posteriormente, todas las películas fueron tratadas térmicamente a 650°C en ambiente de aire, por un periodo de 2 horas, observándose una mejora muy significativa de su cristalinidad. Se realizaron medidas de Difracción de Rayos X a todas las películas; todas ellas mostraron la formación de la matriz de In2O3; sin embargo, se pudo observar la presencia de la fase de Cr2O3 en las películas más gruesas (8 y 9 ho...