Películas delgadas de Cobre metálico (Cu) fueron depositadas en sustratos de borosilicato usando la técnica de evaporación térmica, posteriormente fueron tratadas térmicamente a 200°C y 500°C en atmosfera de aire con el fin de obtener las fases policristalinas de Cu2O y CuO, respectivamente. Mediante difracción de rayos X (DRX), se confirmó la formación de Cu2O y CuO, sin evidencia de fases secundarias. Refinamiento de Rietveld fue realizado a los patrones de difracción para determinar las propiedades estructurales como parámetros de red, tamaño del cristalito y el estrés residual. Así mismo, se realizaron medidas ópticas con el UV-Vis para obtener las propiedades ópticas de las películas delgadas de óxido de cobre (Cu2O y CuO), así como el espesor de la película más gruesa de Cu2O; este espesor fue utilizado para determinar la resistividad experimental de las pelÃ...