Comparación de la estabilidad dimensional de los modelos definitivos obtenidos mediante dos técnicas de impresión con siliconas de adición

• Autor: Aguirre Becerra, Carlos Andre
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2018
• Institución: Universidad Católica Santo Toribio de Mogrovejo
• Repositorio: USAT-Tesis
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:tesis.usat.edu.pe:20.500.12423/1225
• Enlace del recurso: http://hdl.handle.net/20.500.12423/1225
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Siliconas; Técnica de impresión dental; Materiales de impresión dental; http://purl.org/pe-repo/ocde/ford#3.02.14

El objetivo del presente estudio fue comparar la estabilidad dimensional de los modelos definitivos obtenidos mediante dos técnicas de impresión con siliconas de adición. El diseño de contrastación fue experimental. Se confeccionó una matriz metálica de acero inoxidable según la ADA n° 19 la cual presentaba 2 pilares con una altura promedio de 10.13 mm, y un diámetro promedio de 10.36 mm respectivamente. Se tomaron 40 impresiones con siliconas de adición, 20 de ellas según la técnica de un paso y 20 de ellas según la técnica de 2 pasos. El vaciado se realizó con yeso tipo IV con una mezcladora al vacío twister evolution venturi de la marca renfert modelo 1829. Finalmente se procedió a medir los pilares de los modelos vaciados tanto en altura y diámetro con un calibrador milimétrico digital de la marca Mitutoyo con una aproximación de 0.01 mm. Y se obtendrá mediante la fórmula del Volumen= π * r2 * h la estabilidad dimensional. Donde π es una constante de 3.14, r es radio (diámetro / 2) y h es altura. Los datos fueron procesados a través del análisis de Tukey para determinar la diferencia de medias entre los grupos experimentales con un nivel de significancia al 95% y la prueba de Lavene para diferencias de varianzas. Se concluyó que los modelos obtenidos a partir de la técnica de impresión de un paso presentan mayor estabilidad dimensional a comparación de los modelos obtenidos con la técnica de impresión de dos pasos.