Montaje de un sistema de magnetrón sputtering de caras opuestas para la producción de películas delgadas de Hidroxiapatita

• Autor: Torres Calla, Manuel Jesús
• Formato: tesis de grado
• Fecha de Publicación: 2023
• Institución: Universidad Nacional Mayor de San Marcos
• Repositorio: UNMSM-Tesis
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:cybertesis.unmsm.edu.pe:20.500.12672/22789
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.12672/22789
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Magnetrones; Hidroxiapatita; https://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.02

Implementa un sistema de magnetrón sputtering de caras opuestas el cual se ensambló el Laboratorio de Síntesis y Caracterización deMateriales de la Universidad Nacional Mayor de San Marcos (UNMSM). La implementación del sistema se llevó a cabo teniendo en cuenta las especificaciones de los sistemas de sputtering actuales. Finalmente, para verificar el funcionamiento de este equipo se realizó el crecimiento de películas delgadas de Hidroxiapatita (HAp) a diferentes tiempos de crecimientos partiendo de blancos (targets) de HAp. La potencia usada en el sistema de sputtering fue de 120 W con una mezcla de gases de Ar y O2 en una relación de 5 a 1. La caracterización del plasma se realizó mediante espectroscopia óptica de emisión (EOS), mientras que la caracterización morfológica de las películas delgadas se realizó mediante microscopía óptica y microscopia electrónica de barrido (SEM). Por otro lado, la caracterización elemental y de compuestos moleculares se realizaron mediante la técnica de espectroscopia de energía dispersiva (EDS) y espectroscopia infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) respectivamente. El análisis por difracción de rayos X (XDR) mostró el crecimiento cristalino de la HAp para tiempos de 3 a 5 horas. Finalmente, los resultados microscopía de fuerza atómica (AFM) mostraron una tasa de crecimiento de 1.4 nm/min.