Evaluación de tres técnicas de Fotopolimerización con Diodo Emisor de Luz en la Resistencia Compresiva de Resina Compuesta de Nanopartículas, Puno – 2017

• Autor: Quispe Maquera, Nelly Beatriz
• Formato: tesis de maestría
• Fecha de Publicación: 2018
• Institución: Universidad Andina Néstor Cáceres Velasquez
• Repositorio: UANCV-Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.uancv.edu.pe:UANCV/1595
• Enlace del recurso: http://repositorio.uancv.edu.pe/handle/UANCV/1595
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Técnicas de fotopolimerización, resistencia compresiva

El objetivo del presente estudio fue evaluar tres técnicas de fotopolimerización con diodo emisor de luz en la resistencia compresiva de resina compuesta de nanopartículas. El estudio es de nivel explicativo, de corte transversal y uasiexperimental. En los materiales y métodos se elaboraron 60 cilindros de resina compuesta de nanopartículas de la marca 3M™ Filtek™ Z350 XT de 4 mm de diámetro por 8 mm de altura, los cuales se dividieron en tres grupos de 20 cilindros de resina compuesta cada uno, en donde cada grupo fue fotopolimerizado con tres diferentes técnicas por 20 segundos con lámpara de diodo emisor de luz (LED) marca Woodpecker modelo LED.D; el grupo 1 (N°=20) fue fotopolimerizado con técnica de luz intensa, el grupo 2 (N°=20) con técnica de luz en rampa y finalmente el grupo 3 (N°=20) con técnica de luz intermitente. Posteriormente fueron sometidas a cargas en kilogramos en la máquina para ensayos Marshall MA-75, donde se midió la resistencia compresiva de los cilindros de resina. Los resultados se constituyeron en tablas utilizando estadística descriptiva, además de las pruebas estadísticas se empleó la prueba de ANOVA en donde se obtuvo P= 0.000 lo que indicó que si existen diferencias estadísticamente significativas entre las medias de los valores de las técnicas de fotopolimerización. Como conclusión, se tiene que, se presentan diferencias estadísticas en la resistenia comprensiva de la resina de nanopartículas, al ser fotopolimerizada con las tres diferentes técnicas, obteniéndose que la resistencia comprensiva con técnica en rampa tuvo valores mayores que la luz intensa y luz intermitente respectivamente.