Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturas

Descripción del Articulo

Un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas a bajas temperaturas fue implementado empleando un sistema criogénico de ciclo cerrado de helio, un sistema de control de temperatura y un sistema de medición de resistividad. A fin de verificar el sistema implementado, seis cont...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autor: Llontop López-Dávalos, Paul David
Formato: tesis de maestría
Fecha de Publicación:2017
Institución:Pontificia Universidad Católica del Perú
Repositorio:PUCP-Tesis
Lenguaje:español
OAI Identifier:oai:tesis.pucp.edu.pe:20.500.12404/8685
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Nivel de acceso:acceso abierto
Materia:Semiconductores
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description Un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas a bajas temperaturas fue implementado empleando un sistema criogénico de ciclo cerrado de helio, un sistema de control de temperatura y un sistema de medición de resistividad. A fin de verificar el sistema implementado, seis contactos de aluminio fueron depositados a lo largo de cada diagonal sobre una muestra cuadrada de silicio tipo p de bajo dopaje para medir su resistividad a diferentes temperaturas a partir de 66K. La magnitud del error de medición en función de la distancia de los contactos respecto a las esquinas de la muestra fue determinada por dos métodos. La discusión de la dependencia de la resistividad con la temperatura fue realizada con los resultados de menor error.
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spelling Weingärtner, RolandLlontop López-Dávalos, Paul David2017-05-25T22:31:13Z2017-05-25T22:31:13Z20172017-05-25http://hdl.handle.net/20.500.12404/8685Un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas a bajas temperaturas fue implementado empleando un sistema criogénico de ciclo cerrado de helio, un sistema de control de temperatura y un sistema de medición de resistividad. A fin de verificar el sistema implementado, seis contactos de aluminio fueron depositados a lo largo de cada diagonal sobre una muestra cuadrada de silicio tipo p de bajo dopaje para medir su resistividad a diferentes temperaturas a partir de 66K. La magnitud del error de medición en función de la distancia de los contactos respecto a las esquinas de la muestra fue determinada por dos métodos. La discusión de la dependencia de la resistividad con la temperatura fue realizada con los resultados de menor error.A low temperature thin film electrical resistivity measurement system was implemented by employing a closed cycle helium cryogenic system, a temperature control system and a resistivity measurement system. In order to verify the implemented system, six Al contacts were deposited along each diagonal on a square low doped p-type Si sample for resistivity measurement at different temperatures starting at 66K. Measurement error magnitude as a function of the contact distance relative to the sample corners was determined by two methods. Discussion of the temperature dependence of resistivity was carried out with the lowest error results.Fondo Nacional de Desarrollo Científico y Tecnológico - FondecytspaPontificia Universidad Católica del PerúPEinfo:eu-repo/semantics/openAccesshttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/SemiconductoresPelículas delgadashttps://purl.org/pe-repo/ocde/ford#1.03.00Implementación de un sistema de medición de resistividad eléctrica de películas delgadas semiconductoras de bajas temperaturasinfo:eu-repo/semantics/masterThesisreponame:PUCP-Tesisinstname:Pontificia Universidad Católica del Perúinstacron:PUCPSUNEDUMaestro en FísicaMaestríaPontificia Universidad Católica del Perú. Escuela de PosgradoFísica533017https://purl.org/pe-repo/renati/level#maestrohttps://purl.org/pe-repo/renati/type#tesisORIGINALLLONTOP_PAUL_RESISTIVIDAD_ELECTRICA.pdfLLONTOP_PAUL_RESISTIVIDAD_ELECTRICA.pdfTexto completoapplication/pdf6812752https://tesis.pucp.edu.pe/bitstreams/b93f7034-bf85-493b-8017-36c6fd1e4d88/download400306289dda011e570299092810061aMD51trueAnonymousREADLICENSElicense.txtlicense.txttext/plain; charset=utf-81364https://tesis.pucp.edu.pe/bitstreams/8f8c34f5-e084-4e56-ac4e-818c28375655/download78fbcb528ed107d89fa91de744ce17deMD52falseAnonymousREADTHUMBNAILLLONTOP_PAUL_RESISTIVIDAD_ELECTRICA.pdf.jpgLLONTOP_PAUL_RESISTIVIDAD_ELECTRICA.pdf.jpgIM Thumbnailimage/jpeg17406https://tesis.pucp.edu.pe/bitstreams/c784fcb3-a8fa-4e43-a9f7-f357a9b381d0/download42a3979640cad853a5698dd69577d3afMD53falseAnonymousREADTEXTLLONTOP_PAUL_RESISTIVIDAD_ELECTRICA.pdf.txtLLONTOP_PAUL_RESISTIVIDAD_ELECTRICA.pdf.txtExtracted texttext/plain107280https://tesis.pucp.edu.pe/bitstreams/de1216be-8391-4cf9-910e-5b0daf0be99a/download2132e32d3dc66bda319fde1ac53be98dMD54falseAnonymousREAD20.500.12404/8685oai:tesis.pucp.edu.pe:20.500.12404/86852025-07-18 13:02:35.749http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/2.5/pe/info:eu-repo/semantics/openAccessopen.accesshttps://tesis.pucp.edu.peRepositorio de Tesis PUCPraul.sifuentes@pucp.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