Evolución del espesor de la película de óxido de aluminio debido al pH del refrigerante y la temperatura superficial de la vaina de los elementos combustibles de un reactor nuclear

• Autor: Babiche, Iván
• Formato: artículo
• Fecha de Publicación: 2014
• Institución: Instituto Peruano de Energía Nuclear
• Repositorio: IPEN-Institucional
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:repositorio.ipen.gob.pe:20.500.13054/317
• Enlace del recurso: https://hdl.handle.net/20.500.13054/317
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: Aleaciones de aluminio; Reactor RP-10; Elementos combustibles nucleares; Espesor; Óxidos

Se describe el mecanismo de crecimiento de una película del óxido de aluminio sobre una aleación del mismo material, que sirve como superficie protectora de la aleación, siendo esta aleación el material constitutivo de las vainas de los elementos combustibles del reactor nuclear RP-10. Los parámetros más influyentes en el crecimiento de la película son: el pH del agua refrigerante y la temperatura superficial de la vaina del elemento combustible. Para el estudio se utilizó un modelo matemático que relaciona la evolución del espesor de la capa de óxido de aluminio a través del tiempo, en función de la misma película de óxido, mediante una ley de potencia. Se concluye que el tiempo de irradiación, el flujo de calor en la superficie del material de aluminio, la velocidad del refrigerante, la conductividad térmica del óxido, el espesor inicial de la capa de óxido y la solubilidad del óxido protector son parámetros que influyen en la velocidad y formación de esta película.