Chemical and topographical analysis of the surface of dental implants

• Autores: Muñante Cárdenas, Jose Luis, Landers, Richard
• Formato: artículo
• Fecha de Publicación: 2012
• Institución: Universidad Nacional Mayor de San Marcos
• Repositorio: Revista UNMSM - Odontología Sanmarquina
• Lenguaje: español
• OAI Identifier: oai:ojs.csi.unmsm:article/2818
• Enlace del recurso: https://revistasinvestigacion.unmsm.edu.pe/index.php/odont/article/view/2818
• Nivel de acceso: acceso abierto
• Materia: dental implants; titanium; chemical analysis; biocompatible materials; implantes dentales; titanio; análisis químico; materiales biocompatibles

The aim of this study was to analyze the chemical composition and surface topography of commercially pure titanium implants, obtained from three trademarks frequently used in dentistry. There were nine titanium implants of the following systems: As Technology, Neodent and Sistema Nacional de Implantes. These materials were divided into three groups, with three implants in each group. Photoelectron Spectroscopy Excited by X-ray (XPS) was used to determine the chemical composition, while to characterize the surface topography we used Scanning Electron Microscopy (SEM). Titanium, carbon, silicon and oxygen were identified in all samples analyzed. Other contaminants were: silicon, aluminum, sulfur, lead, phosphorus, calcium, sodium and nitrogen. We identified impurities on the surface of all implants analyzed. We consider necessary to development more studies relating the presence and concentration of these elements with the osseointegration process.
El objetivo de este estudio fue analizar la composición química y la topografía superficial de implantes de titanio comercialmente puro, obtenidos de tres marcas comerciales utilizadas actualmente en odontología. Fueron analizados nueve implantes de titanio de los siguientes sistemas: As Technology, Neodent y Sistema Nacional de Implantes. El material fue dividido en tres grupos de tres implantes cada uno. Para determinar la composición química se utilizó la técnica de Espectroscopia de Fotoelectrones Excitada por rayos-X (XPS), mientras que para caracterizar la topografía superficial se utilizó Microscopia Electrónica de Barrido (MEB). Fueron identificados titanio, carbono, silicio y oxígeno en todas las muestras analizadas. Otros elementos contaminantes identificados fueron aluminio, azufre, plomo, fósforo, calcio, sodio y nitrógeno. Fueron identificadas impurezas en la superficie de todos los implantes analizados. Consideramos necesario realizar otros estudios que relacionen la presencia y concentración de estos elementos con el proceso de oseointegración.