Luna Pinto, J. R., & Chura Figueroa, E. (2017). Optimizar Variables de un Reactor, para deposición de Vapores Químicos Metálicos (CVD), mediante un Simulador Comercial.
Citación estilo ChicagoLuna Pinto, Junior Rafael, y Eliana Chura Figueroa. Optimizar Variables De Un Reactor, Para Deposición De Vapores Químicos Metálicos (CVD), Mediante Un Simulador Comercial. 2017.
Cita MLALuna Pinto, Junior Rafael, y Eliana Chura Figueroa. Optimizar Variables De Un Reactor, Para Deposición De Vapores Químicos Metálicos (CVD), Mediante Un Simulador Comercial. 2017.
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