Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019 - Dávila Cajaña, Marco Gustavo (2019)
El objetivo de la presente investigación fue determinar la resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas FILTEK™ Z350 XT, Magma NT y FORMA fotopolimerizadas con una lámpara de luz LED Woodpecker modelo I con una intensidad de 1000mW/cm2. Se elaboró 36 probetas de resina de 3.5 mm de diámetro y 7 mm de longitud, fueron preparadas en una matriz metálica utilizando la técnica incremental polimerizando 20 segundos en cada incremento. Se eliminó los excesos de resina con un disco soflex de grano medio, fino y ultra fino. Se dividieron las probetas en 3 grupos de 12 muestras a su respectiva marca. Posteriormente las probetas fueron llevadas al laboratorio de materiales de la facultad de Ingeniería Mecánica de la Universidad Católica Santa María donde fueron sometidas al test de resistencia a la compresión en la maquina universal de polímeros. Para la recolección de datos se utilizó la técnica observacional con ayuda de una ficha de registro en donde se anotó la información en MPa de cada probeta. Los resultados demostraron que el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida FILTEK™ Z350 XT fue de 219.2 MPa, el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida Magma NT fue de 186.8 MPa y el valor promedio de resistencia a la compresión de la resina nanohibrida FORMA 182.9 MPa. Se concluyó que la resina nanohibrida FILTEK™ Z350 XT posee mayor resistencia a la compresión frente a las resinas nanohibridas Magma NT y FORMA. Palabras clave: Resinas, incremental, resistencia a la compresión, nanohibridas.