Dávila Cajaña, M. G. (2019). Resistencia a la compresión de tres resinas nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT y Forma) fotopolimerizadas con una lámpara de luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019.
Citación estilo ChicagoDávila Cajaña, Marco Gustavo. Resistencia a La Compresión De Tres Resinas Nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT Y Forma) Fotopolimerizadas Con Una Lámpara De Luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019. 2019.
Cita MLADávila Cajaña, Marco Gustavo. Resistencia a La Compresión De Tres Resinas Nanohibridas (Filtek™ Z350 XT, Magma NT Y Forma) Fotopolimerizadas Con Una Lámpara De Luz L.E.D., U.C.S.M, Arequipa 2019. 2019.
Precaución: Estas citas no son 100% exactas.
