Satisfacción laboral y compromiso organizacional en colaboradores de una empresa privada de Lima Metropolitana - Palacín Simón, Rocío Lucero (2022)
La presente investigación tuvo como objetivo determinar la relación entre satisfacción laboral y el compromiso organizacional en colaboradores de una empresa privada de Lima Metropolitana. Su método de investigación fue de enfoque Cuantitativo y de tipo transversal, con alcance correlacional. La muestra estuvo conformada por 150 trabajadores de todas las áreas de una empresa privada que se encuentran divididas en 3 sedes distribuidas en los distritos de Lince, La Victoria y Huachipa de Lima metropolitana. Para la recopilación de datos se aplicaron los instrumentos de la Escala de satisfacción laboral SL-ARG y la Escala de Compromiso organizacional, los cuales presentaron adecuada confiabilidad y validez de constructo. Los resultados evidencian que existe una correlación débil entre las variables. Según los objetivos específicos, para la variable satisfacción laboral se concluye que en nuestra población predomina el nivel Regular y según sus variables de control iniciando con sexo en masculino, Grupo Administrativo y a Sede Petit Thouars, predominan Nivel Regular. Respecto a la variable compromiso organizacional se concluye que, nuestra población predomina el nivel moderado y según sus variables de control iniciando con sexo en masculino, Grupo Administrativo y a Sede Petit Thouars predominan Nivel Moderado compromiso. En cuanto a la relación de las dimensiones se determinó que existe relación directa y altamente significativa entre el factor Normativo de Compromiso Organizacional con todos los factores de la variable Satisfacción laboral (.189< rho <.386; p<.05); el factor Continuidad de Compromiso Organizacional con los factores de Satisfacción laboral: Remuneración y Beneficios Laborales, Promoción y Capacitación, Puesto de Trabajo (.194< rho <..213; p<.05); mientras que el Factor afectivo no presenta relaciones significativas con ningún factor de Satisfacción laboral.