Elaboración y caracterización física de películas semiconductoras de silicio amorfo - Fernández Chillcce, Enver (1999)
En este trabajo se presenta el resultado de la elaboración y caracterización de películas finas de Silicio amorfo. las películas fueron obtenidas por el Método de Descarga plasmática reactivo y a diferencia de otros trabajos realizados anteriormente por el mismo método, muestran muy buena calidad óptica, lo que ha permitido derivar los parámetros ópticos del material (índices de refracción y coeficientes de absorción), en un gran rango espectral. Se complementan los resultados con la determinación de algunas propiedades eléctricas. (Mediciones de conductividad y efecto Seebeck).