Tiempo de curado en la resistencia adhesiva dentinaria al utilizar dos unidades de fotocurado - Castro Ramirez, Leonor Cristina (2023)
Objetivo: Este estudio buscó evaluar las unidades de polimerización LED polywave (PW) y monowave (MW) sobre la fuerza de unión a la microtracción (µTBS) de las resinas bulk-fill, utilizando tiempos de curado diferentes. Material y método: Se realizó un estudio experimental in vitro, transversal, propectivo, para lo cual se utilizaron terceros molares y se restauraron con las resinas Filtek One Bulk Fill Restorative A2, Tetric® N-Ceram Bulk Fill IVA y Opus Bulk Fill APS A2, cada una fue colocada con su respectivo sistema adhesivo y fueron fotopolimerizados con Elipar Deep cure L (3M ESPE, Saint Paul, EE. UU.) y Valo (Ultradent Products, South Jordan, EE. UU.) en sus tres modos, standard mode, high power mode y extra power mode. Se cortó los dientes obteniendo 15 microbarras por grupo y se midieron con pruebas de microtracción. Los datos se analizaron en el programa SPSS (Statistical Package for the Social Sciences Inc. IBM, NY, USA) versión 24.0. Se realizó análisis descriptivo e inferencial considerando un valor de significancia del 5% (p<0,05) Resultados: Filtek One Bulk Fill, Tetric N-Ceram Bulk y Opus Bulk Fill tuvieron mayor resistencia adhesiva al ser fotocuradas con una lampara monowave, a comparación de la lampara polywave en tres diferentes tiempos y modos de curado. Conclusión: Existen diferencias significativas al comparar la resistencia adhesiva dentinaria al utilizar dos unidades de fotocurado